ArF准分子激光合成石英玻璃基板的研究及制作方法.docVIP

ArF准分子激光合成石英玻璃基板的制作方法摘要：本发明涉及的合成石英玻璃基板可以使用准分子激光传输，特别是ArF准分子激光。通过控制玻璃基板中影响激光传输的羟基和氢分子的浓度等因素，使得准分子激光在该合成石英玻璃基板中的传输具有高传输，传输均匀性，低双折射，最小化的变化或面内均匀透光。这种合成玻璃基板特别适合用作光罩、ArF浸入式光刻或类似的光掩膜。 背景436nm、365nm的近紫外(NUV)进入到248mm、193nm的深紫外(DUV)。248nm的KrF准分子激光，目前的极限只可解决0.13μm曝光。而193nm的ArF准分子激光光刻可将特征线宽推进到0.10μm。 据报道，193nm光刻机系统中需要80片左右的光学镜片，若每个镜片的透过率为98％，则整个系统的最后输出能量为输入能量的19．86％。由此可知系统中光学元器件表面所镀光学薄膜的好坏将直接影响整个光刻的质量。薄膜元件对光学系统的效率起着重大的或者决定性的作用，高性能、高质量的光学镀膜技术及相应的检测技术成为光刻机项目首先需要解决的关键技术之一[1]。 在VLSI电路中更高的集成度使得曝光模式有越来越小线宽。这造就了，在半导体晶片电路图上，需要一个曝光光源较短的波长在平版印刷系统或步进机上用来书写。以前光刻步进机的选择光源是i线（波长365nm），已经在很大程度上被KrF准分子激光（248nm）取代，并且现在的ArF