冰洲石晶体化学机械抛光(CMP)工艺参数研究.pdfVIP

冰洲石晶体化学机械抛光(CMP)工艺参数研究/王永宪等 ·31 · 冰洲石晶体化学机械抛光(CMP)工艺参数研究 王永宪，于化东，臧春雨，王东海 (长春理工大学材料科学与工程学院，长春130022) 摘 要 在冰洲石晶体的化学机械抛光过程中，影响CMP 的工艺参数有许多，本文分析了这些工艺参数以及如何利用 这些工艺参数来改变或影响CMP 。 关键词 冰洲石晶体 CMP 工艺参数 Study of Technical Parameters of Iceland Crystal on CMP WANG Yongxian,YU Huadong,ZANG Chunyu,WANG Donghai (Changchun University of Science and Technology ，JiLin Changchun 130022) Abstract Many technical parameters will affect the chemical and mechanical effect during the CMP on the Iceland Crystal .This paper has analyzed these parameters and how to control these paramerers during the CMP. Key words iceland crystal ，CMP ，technical parameters 0 引言 2 冰洲石晶体加工工艺参数对抛光质量的影 冰洲石晶体是一种纯净碳酸钙六角系天然晶体，易被 响分析 击裂成菱面体，并成平行六面体，每个表面都是平行四边形， 2.1 研浆 其中一对锐角为78 °5 ′，另一对钝角为101°55 ′。冰洲 研浆是CMP的关键要素之一，按pH值分类，主要有酸 石晶体是光学质量很高的无色透明晶体。其化学成分纯净， 性浆料和碱性浆料。实验发现，冰洲石晶体在强碱性浆料中 双折射和偏振现象明显，紫外光、可见光及近红外光谱透过 有较高的腐蚀领域。抛光液的化学作用一方面提高了蚀刻的 范围很宽。用它制成的偏振分光元件，可用于高档偏振光显 速度，另一方面也改变了晶体表面、抛光垫和磨料表面的机 微镜、偏振光分光仪、旋光仪、椭圆偏振仪、光弹实验装置、 械性能，甚至影响机械作用。pH值会影响到抛光面或磨屑 [1] 激光开关、激光通讯及计量仪器中 。 的溶解及可溶性、晶体上表层结构，以及磨料悬浮的稳定性 1 冰洲石晶体的CMP 工艺参数简介 和磨料的有效性。抛光液的pH值在特定的范围内也会对由 冰洲石晶体进行化学机械抛(Chemical Mechanical 某种特定材料制成的抛光盘产生影响，而且会影响到抛光盘 Polishing ，简称CMP )技术的工艺过程包括：将晶体粘贴在 与抛光垫之间的粘附力。pH调制剂有NH3 、有机碱(pH值一 载盘上，待抛光面向下压在抛光盘上，当载盘与抛光盘在一 般在9~11)等。 定速度下旋转时，抛光液从上面以一定的速率滴下，进入到 稳定分散剂的作用是保证浆料中的磨料不发生絮凝和 工件与抛光盘之间进行抛光。此抛光过程中的3个主要组成 沉降现象，并使磨料的粘度尽可能低，具有良好的流动性和 部分是：晶体成型坯料、CMP设备(见图1)和抛光液。 抛光布适应性，提高粒子与浆料的混合性，以达到提高表面 抛光质量的效果。稳定分散剂可选择PVP 。浆料研究的最终 目标是找到化学作用和机械作用的最佳结合，以获得去