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直拉硅单晶工艺培训理论基础
单晶:詹文平
文字描述:
硅材料的发展
文字说明:
直拉单晶硅工艺学象其他科学一样,随着社会的需要和生产的发展逐渐发展起
来。十九世纪,人们发现某些矿物,如硫化锌、氧化铜具有单向导电性能,并用它
做成整流器件,显示出独特的优点,使半导体材料得到初步应用。后来,人们经过
深入研究,制造出多种半导体材料。1918年,切克劳斯基 (J·Czochralski)发表
了用直拉法从熔体中生长单晶的论文,为用直拉法生长半导体材料奠定了理论基
础,从此,直拉法飞速发展,成为从熔体中获得单晶一种常用的重要方法。目前一
些重要的半导体材料,如硅单晶,锗单晶,红宝石等大部分是用直拉法生长的。直
拉锗单晶首先登上大规模工业生产的舞台,它工艺简单,生产效率高,成本低,发
展迅速;但是,锗单晶有不可克服的缺点:热稳定性差,电学性能较低,原料来源
少,应用和生产都受到一定限制。六十年代,人们发展了半导体材料硅单晶,它一
登上半导体材料舞台,就显示了独特优点:硬度大,电学热稳定性好,能在较高和
较低温度下稳定工作,原料来源丰富。地球上25.8%是硅,是地球上锗的四万倍,真
是取之不尽,用之不竭。
文字描述:
硅元素的分布及存在形式
文字说明:
我们脚下的泥土、石头和沙子,我们
使用的砖、瓦、水泥、玻璃和陶瓷等等,
这些我们在日常生活中经常遇到的物质,
都是硅的化合物。
硅作为仅次于氧的最丰富的元素存在于地
壳中,约占地表岩石的四分之一。化学元
素符号Si,由于硅易于与氧结合,自然界
的硅多数以硅的氧化物(二氧化硅SiO2)
和硅酸盐的形式存在。自然界中没有游离
态(纯净)的硅存在,纯净的硅都是用人
工方法制取的。人工方法制备硅主要有直 Si
拉法(CZ法)和悬浮区熔法(FZ法)等。
(下节课讲) Smithsonian Magazine
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文字描述:
纯净的硅有什么用途?
图片说明:
硅是一种典型的半导体材料,其导电性能介于导体与绝缘体之间,导电率
不及金属,但受热后电阻随温度升高而迅速减小,导电性能随温度升高而增
加。这一特点决定了硅集成电路工作温度的上限值。
如果硅的纯度不够,杂质含量超标将严重影响产品性能和寿命。
硅是重要的半导体材料,电子工业上使用的硅应具有高纯度和优良的电学和机
械等性能。硅是产量最大、应用最广的半导体材料,它的产量和用量标志着一
个国家的电子工业水平。
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文字描述:
晶体的理论基础
文字说明:
晶体和非晶体不同,有很多独特的性质,在大量感性认识的基础上,经过深
入研究,确定晶体是由原子、分子或离子等在空间按一定规律排列组成的。这些粒子
在空间排列具有周期性,对称性。相同粒子在空间不同排列,晶体具有不同外形,不
同的性质。不同粒子相同的排列,晶体性质也不相同。为了研究晶体中原子、分子或
离子的排列,晶体性质也不相同。为了研究晶体中原子、分子或离子的排列,把这些
微粒的重心作为一个几何点,叫做结点(或格点),微粒的分布规律用格点表示。晶
体中有无限多在空间按一定规律分布的格点,称为空间点阵。
空间点阵中,通过两个格点作一条直线,这一直线上一定含有无数格点,这样的
直线叫晶列,晶体外表的晶棱就是晶列。互相平行的晶列叫晶列族,一
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