AIN. SiC 微波衰减陶瓷在X 波段的选频衰减性能.pdfVIP

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第29卷第8期 电 子 元 件 与 材 料 Vbl.29No.8 2010年8月 ELECTRONICCoMPONENTSANDMATERIALS Aug.2010 AIN.SiC微波衰减陶瓷在X波段的选频衰减性能 陆文慧,李晓云,丘泰,罗辑 (南京工业大学材料科学与工程学院,江苏南京210009) 摘要:以氮化铝、碳化硅为原料,氧化钇为烧结助剂,在1900℃,氮气气氛中,采用热压烧结工艺制备了 AIN.SiC复相微波衰减材料。借助网络分析仪,研究了该材料在8—12GHz的微波衰减性能.结果表明,当SiC质 dB 量分数从0增加到9%时,该材料的谐振损耗峰所对应的频率从10.86GHz降低到10.1lGHz,所对应的峰值从3.2 min后, 降低到O.7dB,而该材料的有效衰减带增大;在900一l000℃.氢气(纯度≥99.99%)气氛中保温30~50 该材料的谐振频率维持在10.65~lO.62GHz,谐振峰峰值略微减小;这表明在氢气气氛中的热处理对该材料的微波 衰减性能影响较小. 关键词:微波衰减陶瓷;氮化铝;碳化硅:选频衰减 中图分类号:TM28 文献标识码:A 文章编号:1001—2028(2010)08—0001—04 — attenattenuation OtAl州一Sl Frequency.selectiveoerformance“AlN.SiCoertOrmance attenuationceramicswithintheX.band LU Ji Wenhui,LIXiaoyun,QIUTai,LUO ofMaterialsScienceand University 210009,China) (College Engineering,NanjingofTechnology,Nanjing were methodatl900℃in AINand Abstract:AlN-SiC the compositespreparedby hot-presssintering ni仃ogen,with SiCasrawmaterialsand as additive.Themicrowaveattenuation oftheAlN—SiC Y203sintering performance composites ofSiCiS withinthe of8-12GHzwerestudiedthenetwork resultsshowthat。whenthecontent range using analyzer.The increasedfrom0to9%(mass andvalueoftheresonantattenuationtheAIN—SiC fraction),thefrequency peal(of reducefrom10.86GHzto10.1lGHzandfrom3.2dBto0.7 th

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