电光调制技术在光刻对准中的应用.pdfVIP

第 1期 微细加工技术 No.1 2005年3月 MICROFABRICATION TECHNOLOGY Mar二2005 文章编号:1003-8213(2005)01-0022-04 电光调制技术在光刻对准中的应用 梁友生 ，‘曹益平 ，‘周金梅2，邢廷文2 (1.四川大学光电科学技术系，成都610064;2.中国科学院光电技术研究所 微细加工光学技术国家重点实验室，成都610209) 摘要:介绍了投影光刻机离轴对准系统的结构和相位探测的原理，详细讨论了电光相 位调制技术抑制杂散光的机理，并分析比较了有无杂散光对光刻对准精度的影响。 结果表明，使用电光调制技术可有效提高投影光刻的对准精度。 关 键 词:光刻;对准;对准精度;电光调制技术;杂散光抑制 中图分类号:TN305.7 文献标识码:A 1 引言 分1-〔21，其光路原理如图1所示，其功能是将 硅片的标记与工件台上的基准标记对准。离 光刻对准在光刻系统中占据着十分重要 轴对准激光器输出的632.8nm激光光束是 的地位，其对准精度和对准速度决定了产品 经调制的线偏振激光，照明在硅片或工件台 的质量和生产率。一般要求对准精度为最细 反射型位相光栅标记上，而光栅标记产生的 线宽的1/4一1/3左右，因而随着光刻分辨率 士n衍射级光束则通过望远系统成像在对应 不断减小，研究和探索高精度的对准方法尤 的参考光栅上，在参考振幅光栅后面利用光 为重要。然而影响套刻对准精度的因素很多， 电探测器测量光信号强度，采用光栅相位检 如设备的对准精度、工件台、掩模台的重复定 测技术实现对光栅标记的士n衍射级次独立 位精度、系统畸变、信号处理、周围环境因素变 的精确测量，以确定对准标记的对准相对误 化、光刻工艺本身以及对准光源等，其中对准 差。对准精度与相位检测精度和对准时使用 光源输出的激光光束质量将影响到标记成像 的几级衍射光有关。由位相光栅衍射干涉原 质量和对准精确度。本文提出了一种电光调 理可推出对准精度表达式 制对准光源的方法，该方法可抑制杂散光干 。二卫.鲤 (1) 扰，改善对准标记成像质量和对准套刻精度。 2n 27r 其中8为对准精度，P为物方标记光栅周 2 离轴对准系统照明方案 期，n为衍射级数，Ao为相位测量分辨率。 和相位探测原理 由(1)式可知衍射级次越高，对准精度越高。 此外，0P(主要与信号处理系统的信噪比有 离轴对准方案是整个对准系统的一部 关，即与衍射光信号强度和杂散光引人的噪 收稿日期:2004-10-10;修订日期:2004-11-30 基金项目:微细加工光学技术国家重点实验室基金资助项目(KFS4) 作者简介:梁友生(1975一)，男，湖南蓝山人，硕士研究生，主要从事光电信息处理、微细加工技术研究。 第 1期 梁友生等:电光调制技术在光刻对准中的应用 声有关。在光栅信号强度满足的条件下，杂 COs仁DO- 散光噪声的引人也将导致对准精度降低。采 }0I=L1·k+APL‘ _LC1): 用光电相位调制技术来抑制杂散光噪声，可 COsD「(t-