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超微細銅導線之放電結球織構與接合界面特性研究
洪飛義助理教授
國立成功大學奈米科技暨微系統工程研究所
06-2757575#31395
fyhung@mail.ncku.edu.tw
本研究利用打線機針對線徑 20μm 之銅線,以放電的方法產生結球,並進行微觀組織特徵之解
析;此外銅線與樹脂界面層的特性亦一併觀察。實驗結果顯示銅線與樹脂在 175℃溫度下進行長
時間的反應,並透過 nano-indentation測試,可確定界面層特性與硬度變化關係,而微氧化銅線
直接影響成球不良,透過奈米硬度曲線能協助釐清界面層機制。
關鍵字:微氧化銅導線, EFO 放電結球,Cu/Resin界面分析
1 、前言 氧化處理,實驗流程圖如圖 所示。1
積體電路晶片訊號連接的方法主要有三種: 1. 打線接合
(Wire Bonding) 2. 捲帶自動接合 (Tape Automated 2-3 放電結球
Bonding: TAB) 3.覆晶接合 (Flip Chip:FC) ,其中以打線接合 經氧化之線材以熱音波 (Thermosonic)銲線機,利用EFO
[1]
的技術使用最為廣泛 。目前打線接合的製程仍以金線為主, (Electronic Flame Off) 過程放電產生低電流高電壓能量,將
但由於金的價格昂貴,銅線製程的開發成為電子構裝最重要 線材之尾端熔融成球,此過程在保護氣氛下進行氣體成分為(
[2]
的課題之一 。銅的導電性遠高於金及鋁,因而可保有良好的 95%N2 + 5% H2) ,氣體流量皆控制在1 l/min 。放電結球過程
散熱性及功率,且因應高密度封裝,銅線更有其優勢。但銅 及保護氣體裝置之示意圖如圖 所示。2
線有延展性不足及容易氧化之問題,且在接合後覆蓋在元件
上之樹脂與銅線之間界面層的產生,也會造成電路破壞。本 2-3 銅線與樹脂界面層
研究透過線上熱處理將深抽後之銅線退火處理,提升其延展 將樹脂包覆銅線之試片(如圖 所示3 ) 分別進行大氣下進
性,再將其銅線做氧化處理,並將氧化過之銅線放電成球, 行 175℃,500小時及1000小時熱處理。
進行氧化行為與線材微觀組織的觀察;另一方面,本研究設
計銅線與樹脂在 175℃溫度下進行長時間的反應,分析銅線與 2-4 微觀組織分析
樹脂之間界面層生成特性。 利用冷鑲埋將氧化結球線材進行鑲埋,經研磨拋光至
0.04μm ,拋光後使用濃度約為3%的之 FeCl3 (aq)進行腐蝕,
2 、實驗步驟與方法 腐蝕時間約為 15~30秒,再以OM觀察之;樹脂包覆銅線之試
2-1 深抽銅線退火熱處理 片亦經相同條件拋光後,以SEM進行觀察。
本研究之實驗材料採用純度為4N(99.99%)之純銅,經深
抽至線徑20μm 。線上熱處理處理溫度與時間分別為610℃, 2-5 Nano-indentation測試
0.02秒。 Nano-indentation測試為將樹脂包覆銅線之試片進行研磨
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