原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
第26 卷 第 12 期 无 机 材 料 学 报 Vol. 26 No. 12
2011 年12 月 Journal of Inorganic Materials Dec., 2011
文章编号: 1000-324X(2011)12-1281-06 DOI: 10.3724/SP.J.1077.2011.01281
射频磁控溅射制备 HfLaO 薄膜结构和光学性能研究
1 2 2 2
李 智 , 苗春雨 , 马春雨 , 张庆瑜
(1. 大连大学 机械工程学院, 大连 116622; 2. 大连理工大学 物理与光电工程学院, 大连116023)
摘 要: 采用射频磁控溅射技术制备HfLaO 薄膜, 利用X 射线衍射(XRD)分析了薄膜的微结构, 通过紫外−可见光分
光光度计测量了薄膜的透过谱, 计算了薄膜的折射率和禁带宽度, 利用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌. 结
果表明: 沉积态HfLaO(La: 25%∼37%)薄膜均为非晶态, 随着La 掺入量的增加, HfLaO 薄膜的结晶化温度逐渐升高,
HfLaO(La∼37%)薄膜经900 ℃高温退火后仍为非晶态, 具有优良的热稳定性, AFM 形貌分析显示非晶薄膜表面非常
平整. 随着 La 掺入量的增加, HfLaO 薄膜的透射率先降后增, 在可见光范围薄膜均保持较高的透射率(82% 以上).
HfLaO 薄膜的折射率为 1.77~1.87. 随着 La 掺入量的增加, HfLaO 薄膜的折射率呈先增后降的变化趋势, 同时
HfLaO 薄膜的Eg 逐渐降低, 分别为5.9eV(La∼17%)、5.87eV(La∼25%) 、5.8eV(La∼33%)和5.77eV(La ∼37%).
关 键 词: HfLaO 薄膜; 磁控溅射; 热学稳定性; 光学性能
中图分类号: O484; TN386 文献标识码: A
Structural and Optical Properties of HfLaO Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
1 2 2 2
LI Zhi , MIAO Chun-Yu , MA Chun-Yu , ZHANG Qing-Yu
(1. Department of Mechanical Engineering, Dalian University, Dalian 116622, China; 2. School of Physics and Optoelectronic
Technology, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
Abstract: HfLaO films
文档评论（0）