超精细图案光刻技术的研究与发展.pdfVIP

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2017-09-15 发布于重庆
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超精细图案光刻技术的研究与发展.pdf

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4 No. 4 2002 12 M ICROFABRICAT ION T ECHNOLOGY Dec. , 2002 : 1003O8213(2002) 04O0001O06 1, 2 1 1 2 , , , ( 1 , 200030; 2 , 730000 ) :根据国内外研究和发展现状, 对有望突破 100nm 超精细图案光刻分辨率的一些关技术进行了阐述, 其中包括曝光技术掩模技术光学系统改进和以离轴照明相位移掩模多重滤光和图形演算为代表的分辨率增强技术等 : ; ; ; ; ; :TN30 #7 : A 1 , / 1. 2 Lm 130nm, 10w ph ( 100mm) 100 wph( 200mm) , ( ULSI) 1 , 1 000 , , , 30% 0. 2 Lm 2 6M DROM, 0. 18Lm 1G DROM, 2010 2 70nm, 64G DROM [ 1] ; , 1 , 0 , [ 2] R ( ) NA [ 3] / Kk 1 : : 2002O07O04; : 2002O08O12 : ( 197 - ) , , , , ; ( 19 - ) , , , , , ; ( 19 7- ) , , , , 2 2002 R = k 1#K/ NA ( 1) ( u- SPM) , 30nm, , [9- 11] 3 , k 1 0. , ( 2 ) 3 , NA 0. 6 2 , : D OF = ? k 2#K/ ( N A ) 2 ( 2) , 248nm , 180 nm 1 0 nm ; 193 [ 12] , nm , , 193nm NA [ 13] , 4 NA IBM 120 nm F 1 7 nm 2 [3] 100~ 70 n