MgF2薄膜的制备方法及其应用.pdfVIP

ofYunnanNormal 云南师范大学学报(自然科学版) Journal University 2013年9月-33卷5期(V01．33No．5) MgF2薄膜的制备方法及其应用+ 李石周， 廖华， 安家才， 王建秋， 付蕊， 肖祥江， 白红艳， 谢明达 (云南师范大学太阳能研究所；教育部可再生能源材料先进技术与制备重点实验室； 云南省农村能源工程重点实验室，云南昆明650092) 摘要：概述了MgF：薄膜的制备方法及其在各领域中的应用。通过对制备方法的对比研究和分 析，得到：众多的方法中，真空蒸发具有较为简单的设备和方法；而应用最多的是电子束蒸发法。MgF： 薄膜以其优异的性能已广泛应用于各行业中。 关键词：氟化镁；制备方法；应用；减反射膜 中图分类号：0484 文献标志码： A 文章编号： 1007—9793(2013)05—0034—04 如化学均匀性好、纯度高、颗粒细、操作简单等。 氟化镁(MgF：)是无色金红石(TiO：)型结构， 四方晶系，点群4／mmm，空间群P42／mnm．作为一但其工艺程序复杂、薄膜厚度与均匀性控制稍差。 种广泛应用的光学性能优良的镀膜材料，氟化镁 崔延霞等采用溶胶一凝胶法旧J，以醋酸镁和 薄膜具有折射率低(n=1．38)、透明波段宽 氟化氢为原料，用甲醇为溶剂制备了MgF：溶胶， 并利用浸渍提拉法在石英基片上镀膜，结果表明： (120nm一8000nm)、能隙宽(E，=11eV)、热稳定 性好、机械强度大和激光损伤阈值高等优异性能， 通过该方法制备出的MgF，薄膜表面平整，在紫外 是制备增透膜、高反膜和高损伤阈值膜的重要材 区的增透性能良好，具有较高的抗激光损伤性能。 料Ⅲj，因此MgF：薄膜在各种光学膜层制备中有 1．2脉冲激光淀积法 着广泛的应用。 脉冲激光淀积法(PLD)是一种广泛应用的新 本文研究MgF，薄膜的制备方法及其相关应 兴的薄膜制备技术，与其他技术相比最主要的优 用，逐渐探索其在太阳电池上的应用。 点是它能得到化学配比良好的材料，目前已广泛 应用于化合物半导体材料∞一1和超导材料¨o的 1 MgF：薄膜的制备方法 制备。 于琳等利用脉冲激光淀积方法制备了MgF， 目前MgF，薄膜的制备方法主要有：真空蒸发 光学薄膜¨1，对其表面形貌以及光学性质进行了 法、磁控溅射法、溶胶一凝胶法、脉冲激光淀积法 测试分析。x射线光电子能谱分析显示样品具有 等，其中应用最多的是电子束蒸发法。 很好的化学组分配比，F／Mg原子比在1．9—2．1 1．1溶胶一凝胶法(Sol—gel法) 之间，接近体材料，在可见光波段其光透过率为 溶胶．凝胶法‘1o是60年代发展起来的一种 60％～80％，在红外波段达到了90％以上，而且 制备玻璃、陶瓷等无机材料的新方法。它是将金 由克喇末一克劳尼格关系(简称KK关系)变换计 属醇盐或无机盐经水解或经解凝形成溶胶，然后 算的折射率大约为1．39，也接近体材料折射率 再将溶质聚合凝胶化、干燥、焙烧，最后得到无机 1．38． 材料的一种方法。它与许多其他的纳米微粒的制