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第31卷 第1期 沈 阳 理 工 大 学 学 报 VO1．31No．1
2012年 2月 JournalofShenyangLigongUniversity Feb．20 l2
文章编号：1003—1251(2012)01—0005—04
脉冲 N离子束轰击对 TiA1N膜层显微
硬度影响的研究
吕树 国，张 罡，李玉海，金 光
(沈阳理工大学 材料科学与工程学院，辽宁 沈阳 110159)
摘 要：采用俄罗斯UVN0．5D2I脉冲离子束辅助 电弧离子镀沉积设备，在高速钢
wl8Cr4V基材上沉积 TiA1N膜层。研究了膜层沉积之前 N 离子束轰击基材 以及膜层
沉积过程 中N离子束辅助轰击对TiAlN膜层显微硬度的影响。结果表明：膜层沉积之
前，N 离子轰击得到高度洁净的表面，使基材的显微硬度 由原来的900HV。。。提高到
1230HV 。膜层沉积过程中，脉冲N离子束轰击，消除了膜层中的硬度 “软点”及阴影
效应，增加 (Ti，A1)N相的含量，膜层的内部产生了压应力，这些因素显著提高了膜层的
硬度 ，膜层的最高硬度为2530HV ．。但轰击能量不能过高，否则会降低膜层的显微硬
度 。
关 键 词：电弧离子镀 ；TiA1N膜层 ；离子束；显微硬度
中图分类号 ：TG156 文献标志码 ：A
EffectsofNitrogen IonBeam BombardmentonM icroHardnessofTiAIN Coatings
LU Shuguo，ZHANG Gang，LIYuhai，JIN Guang
(ShenyangLigongUniversity，Shenyang110159，China)
Abstract：TiA1N coatingsweredepositedonhigh—speedsteelW 18Cr4V substratebyRussia
UVN 0．5D2Iionbeam assistedarcionplatingdevice．TheeffectsofN ionbeam bombar—
dingbeforeandduringdeposition onmicrohradnessofTiAIN coatingswerestudied．The
highlyclean surfacewasformed by N ion beam bombarding beforecoatingsdeposition，
which increased themicrohradnessofmatrix from 900HV0o1to 1230HVo01．The ’’soft
point”ofhardnessin coatingsand the shadow effectwereeliminatedbyN ionbeam bom—
bardingduringcoatingsdeposition．Thecontentof(Ti，A1)Nphasewasincreasedandthe
compressivestresswasproduced in coatings．Thesefactorsincreasedthehradnessofcoat—
ingssignificantly．Thehighesthardnessvalueis2530HVo01．Butthebombardmentenergy
cannotbetoohigh．Otherwise，thehradnessofcoatingswillbedecreased．
Keywords：racionplating；TiA1N coatings；ionbeam ；microhardness
收稿 日期：2011—12—21
基金项 目：科技部国际合作重点项 目(2009DFA4800)．
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