TiO2薄膜折射率的调控方法.pdfVIP

第 38卷 第 9期 湖 南 大 学 学 报 (自然 科 学 版 ) Vo1．38，No．9 2 0 1 1 年 9 月 JournalofHunanUniversity(NaturalSciences) Sep．20 11 文章编号 ：1674—2974(2011)09—0059—05 TiO 薄 膜 折 射 率 的 调 控 方 法 周灵平 ，罗小兰，朱家俊，彭 坤 ，李德意，李绍禄 (湖南大学 材料科学与工程学院，湖南 长沙 410082) 摘 要 ：采用电子束蒸发技术及其辅助工艺制备 了TiO 薄膜，利用 x射线衍射 (XRD)、X射线光电子能谱 (XPS)和原子力显微镜 (AFM)对薄膜的组织结构进行 了表征 ， 采用紫外可见分光光度计研究了TiO 薄膜 的折射率变化．结果表 明：传统 电子束蒸发镀制 的TiO 薄膜的折射率低于块体值，通过调节氧气压 、沉积速率和衬底温度可在 1．97～2．22 范围内调控其折射率；采用离子柬辅助轰击可使薄膜致密化 ，获得折射率在 2．O6～2．42范 围内变化的TiO。薄膜 ；利用斜角入射沉积可控制薄膜生长角度与孔隙率，实现折射率在 1．71～2．18范 围 内的调 控． 关键词 ：薄膜；折射率；电子束蒸发 中图分类号 ：0484．41 文献标识码 ：A RegulationoftheRefractiveIndexofTiO2Films ZHOU Ling—ping，LUO Xiao—lan，ZHU Jia—jun，PENG Kun，LIDe—yi，LIShao—lu (CollegeofMaterialsScienceandEngineering。HunanUniv，Changsha。Hunan 410082，China) Abstract：TiOzfilmswerepreparedbyelectronbeam evaporation (E-beam)．X-raydiffraction (XRD)，X-ray photoelectronspectroscopy (XPS)andatomicforcemicroscope (AFM)wereappliedtocharacterizethefilmsstrue— ture．UV-visiblespectrophotometerwasusedtoanalyzethechangesofrefractiveindex (RI)．Ithasbeenfoundthat theR1ofTiOefilm preparedbyE-beam islowerthanthatofthebulk．Itcanberegulatedwithin1．97～2．22bycon— trolling()2pressure，depositionrateandsubstratetemperature．Compactfilm withR1within2．0642．42isobtained byionbeam assisteddeposition．GlancingangledepositioncanrealizetheregulationofR1within1．7142．18bycon— trollingthegrowingangleandtheporosityoffilms． Keywords：films；refractiveindex；electronbeam evaporation TiOz是一种对可见光高透、对紫外光强烈吸收 着新型渐变折射率光学薄膜的出现 ]，薄膜折射 的高折射率光学材料 ，在太 阳能电池减反膜、干涉滤 率的调控越来越重要．因此掌握 薄膜折射率的调控 波片、光波导等方面有着广泛的应用 ]．传统工艺 方法将有利于发挥 TiO：薄膜在现代光学薄膜 中的 制备的光学薄膜的折射率变化范 围较窄且相对 固