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第 30卷第 5期 红 外 与 毫 米 波 学 报 Vo1.30,No.5
2011年 10月 J.Infi’arP(IMillim.Waves October,201l
文章编号:1001—9014(2011)05—0409—05
近红外 256×1元 InGaAs焦平面探测器无效像元研究
李 雪.,邵秀梅一,唐恒敬 ,汪 洋 ,陈 郁 ,龚海梅
(1.中国科学院上海技术物理研究所 传感技术 国家重点实验室,上海 200083;
2.中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料和器件重点实验室,上海 200083)
摘要 :采用分子束外延方法生长 的PIN型 InP/InGaAs/InP双异质结材料制备 了正照射 256X1元近红外探测器 ,并
与 128X1奇偶两路读 出电路互连,制备了近红外256×1元焦平面探测器.针对近红外 InGaAs焦平面探测器中的
无效像元问题,通过光学显微镜、扫描 电镜和 电学测试将无效像元进行分类,并分析 了无效像元产生的原因.研究
结果表明光敏芯片较低的零偏 电阻、键压过程 引入的损伤和虚焊 以及钝化膜侧面覆盖较薄导致 了无效像元的产
生,通过光敏芯片设计结构改进和钝化膜工艺优化,消除了近红外256×1元 InGaAs焦平面探测器的无效像元.
关 键 词:近红外;焦平面;无效像元
中图分类号 :TN21 文献标识码 :A
Inoperablepixelsof256 ×1elementlinearInGaAs
near-infrared focalplanearrays
LIXue一, SHAO Xiu.Mei一, TANG Heng.Jing , WANGYang一,
CHEN Yu . GONG Hai—Mei’
(1.StateKeyLaboratoryofTransducerTechnology,ShanghaiInstituteofTechnicalPhysics,ChineseAcademyof
Sciences,Shanghai 200083,China;
2.KeyLaboratoryofInfraredImagingMaterialsandDevices,ShanghaiInstituteofTechnical Physics,
ChineseAcademyofSciences,Shanghai 200083,China)
Abstract:256×1elementrfont—illuminatedInGaAsdetectorarrayswerefabricatedbyusingMBE—grownp-InP/n—InGaAs/
n.InPdouble.heterostructureepitaxialmaterialsandwerewire.bondedto128X1elementoddandevenreadoutintegrated
circuits(ROICs)inordertoformnear—infrared256×1elementInGaAsfocalplanearrays(FPAs).Theinoperablepixels
existintheneol一infraredInGaAsFPAs.Inthispaper,theinoperablepixelswereclassifiedandanalyzedbytheopticalmi—
croscope,SEM andelectrical measurements.Theresultsshow thatthelowerresistanceofphotosensitivedetectorsatthebi—
asvoltageof0V ,thedamageandfalsebonding,andthethinnerprofileof
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