技术节点的’模型和提取算法.pdfVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 + * #%%’ * ， ， ， EN9 ,+ MN ,* OB(A #%%’ （ ） !%%%40#’%I#%%’I+ %* IH#*$4%$ /.J/ KL5FG./ FGMG./ !#%%’ .P8( , KPQR , FNC , !—#$ % 技术节点的’() 模型和提取算法! ） ） 王俊平! 郝 跃# !）（西安电子科技大学通信工程学院，西安 $!%%$!） # ）（西安电子科技大学微电子学院，西安 $!%%$!） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） #%% $ !’ #%% !% #! 在 和 技术节点，集成电路制造业的投资剧增而随机成品率却在下降低 为了提升随机成品率，带 ’% () *+ () , 权关键面积的（ ）计算和排序是关键 文中基于数学形态学提出了一种随机缺陷轮廓的 新模型，该模型不 -./ , -./ 仅考虑了’% () 和*+ () 工艺中缺陷在布线区域和空白区域的不同密度，而且也考虑了缺陷在粒径上的分布特性； 同时还设计并实现了与新模型对应的-./ 提取与排序算法，部分版图上的实验结果表明新-./ 可以作为版图优 化的代价函数，从而为随机缺陷的版图优化提供了精确依据, 关键词：缺陷空间分布，缺陷粒径分布，关键面积，版图优化 ： ， ， ， *)(( !!* **0%1 ##%- *$%2 关键面积模型，讨论了缺陷在空间的分布特性，但没 !D 引 言 有考虑缺陷的真实形状，从而使成品率设计不够 精确, 随着大规模集成电路（ ）技术进入到 E1FG ’% () 本文提出一种真实缺陷的带权关键面积新模型 和*+ () 技术节点，随机缺陷引起的成品率损失越 及相应的实现算法，它同时考虑了缺陷的真实轮廓 来越严重, 由于在’% () 及以下的标准制造环境下， 特征、粒径特征和空间分布特征, 在-./ 模型中，应 难以克服随机缺陷引起的成品率损失，因此依赖设 用缺陷的真实形状，可提高其计算精度；考虑缺陷的 计减少成品率损失的成品率设计成为当前的研究热 粒径分布，能准确反应版图对缺陷的粒径敏感度；考 点, 虑缺陷的空间分布特性，则使版图优化设计进一步 为了有效地实现成品率设计，要求在设计阶段， 地适应新的’% () 及以下技术节点成品率提升的需 特别是版图设计阶段，对引起随机成品率损失的缺 求 在 提取算法设计中，应用可视矩阵 （ ，