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第33卷 第 12期 发 光 学 报 V0I．33 N0．I2
2012年 12月 CHINESE JOURNALOF LUMINESCENCE Dec．．2012
文章编号：1000-7032(2012)12—1295~4
新型透明导电薄膜 ErF3掺杂 In203的研制
张剑楠 ，李颜涛 ，范 翊 ，刘星元
(1．发光学及应用国家重点实验室 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，吉林 长春 130033
2．中国科学院大学．北京 100039)
摘要：利用电子束沉积技术首次制备了氟化铒 (ErF3)掺杂的氧化铟(In0)透明导电薄膜(IEFO)研究了
，
薄膜的晶体结构、光学特性和电学特性。利用原子力显微镜测试了不同厚度薄膜的形貌，初步研究了薄膜的
生长过程。研究发现：IEFO薄膜为多晶结构，Er原子的掺人改变了薄膜的优势生长方向，使薄膜在 (211)、
(222)、(444)3个方向上的生长趋势基本相同。薄膜电阻率为1．265×10 n ·cm，电子迁移率为45．76cm2．
V～ ·s～，电子浓度为 1．197X10。cnq～，在 380～780nm范围内的可见光平均透过率为81％。
关 键 词：透明导电薄膜 ；形貌；氧化铟
中图分类号：TN383 ．1 文献标识码：A DOI：10．3788／fgx1295
StudyofNew TransparentConductiveFilm with
Erbium FluorideDoped Indium Oxide
ZHANGJian—nan，LIYan—tao ，FANYi ，LIU Xing—yuan
(1．StateKeyLaboratoryofLuminescenceandApplications，ChangehunInstituteofOptics
FineMechanicsandPhysics，ChineseAcademyofSciences，Changchun130033，China；
2．UniversityofChineseAcademyofSciences，Bejiing100039，China)
$CorrespondingAuthor，E—mail：fanyi@ciomp．ac．cn
Abstract：ErF dopedindiumoxide(IEFO)transparentconductivefilmwasfabricatedbyelectron
beam evaporation．Theoptical，electricalcharacteristicsandcrystalstructureoftheIEFO film were
studied．TheIEFO film iSpolycrystallinesturcture．theintroductionofErchangestheprefeITedori—
entationoflatticeandmakesthegrowthtendencyofthe(211)，(222)，(444)similar．TheIEFO
film showsaresistivityof1．265 ×10一 Q ·am ．acarriermobilityof45．76cm ·V～ ．s一． a
carrierconcentrationof1．197X10 cm～ ．andtheopticaltransmittanceof81％ a
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