大量镅与非放射性杂质存在时锔源α谱分析方法研究.pdfVIP

第32卷 第lO期 核电子学与探测技术 Vo1．32 No．10 2012年 10月 NuclearElectronics DetectionTechnology Oct 2012 大量镅与非放射性杂质存在时锔 源 0谱【分析方法研究 章剑华 ，熊宗华 ，伍怀龙 ，刘俊 (中国工程物理研究院核物理与化学研究所 ，四川绵阳621900) 摘要：谱分析是同位素稀释法测量0【放射性核素的关键步骤之一。文章讨论了当锔源中存在 Am和大量非放射性杂质时，采用”指数拟合法”与”平均值法”，求 Cm、244Cm核素放射性比值的方 法；认为采用”平均值法”结果可靠，且给出的不确定度可以满足测量要求。 关键词 ：锔源；241Am；非放射性杂质；放射性比值 中图分类号： 0571．1 文献标志码： A 文章编号： 0258-0934(2012)10—1156-03 超铀元素大多是d或软B辐射核素，很难 度，通常不确定度可以达到 1％～2％；而待测 用仪器直接测量，尤其在生态条件复杂的环境 核素与指示剂核素放射性比值的不确定度，则 中，超铀元素含量低，核素在制样过程中容易丢 与仅谱及采用的解谱方法密切相关。因此，采 失或被其他 仅核素交叉污染；这使得测量更加 用适合一定特征 0．／谱的解谱方法，是保证测量 困难…。美国和俄罗斯几个实验室进行的环 结果质量的关键。 境样品中低水平钚分析比对，发现实际分析精 当待测核素为 Cm 时，通常采用加入 度比预料的要差 2]，可见准确分析复杂基体中 Cm指示剂的方法。由于。Cm,244Cm核素 的低水平超铀元素并非易事。 峰能量相差较大 (大约310keV)，且通常可以 同位素稀释法 测量是超铀元素分析中 通过化学处理，使电镀片中杂质含量少，镀层较 常用方法。该方法通过加入与待测核素化学性 薄；因此，一般来说，谱中 Cm、Cm两峰基 质相近或相同的定量同位素 (称为”指示剂”)， 本可以分开，直接卡峰即可求得两种核素放射 经化学流程分离后制成放射源，测量两者的放 性比值。 射性比，从而定出待测核素的活度。除化学流 但遇到这样 的情况：若 Cm 由 Am(n， 程引入的不确定度外，由物理测量给出的指示 )生成，当中子通量很小时，生成 Cm极少； 剂比活度、放射源中待测核素与指示剂核素放 并且，由于照射前样品性质的原因，照射后样品 射性比值的不确定度，也是决定最终结果不确 中存在大量稀土元素。向照射后的样品溶液中 定度的主要因素。 定量加入 已知比活度的 Cm溶液，经锔的化学 采用2耵栅网电离室法测量指示剂比活 流程纯化 、去污，制成锔电镀源。由于镅、锔、稀 土元素化学性质相似，在镅与稀土元素极大量 收稿 日期：2012—02—22 存在时，通过除镅、除稀土元素的化学流程，无 作者简介：章剑华(1979～)，女，江苏淮安人，助理研 法将镅与稀土元素完全除净。虽然稀土元素不 究员，大学本科，研究方向为核物理测量。通信作 发出 射线，但它们作为杂质，使仅源厚度增 者：熊宗华(1965一)，男，四川省泸州人，研究员，硕 加，测量能谱中 。Cm向低能端拖尾与。舛Cm能 士，从事核技术应用专业研究。