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北京大学校长基金论文集(2003年) 硅氢表面有机分子自组装的研究
硅-氢表面有机分子自组装的研究
Investigation on self-assembly of organic molecules on the Si-H surface
化学与分子工程学院 郭诚
Academy of chemistry and molecular engineering Guo Cheng
摘要
合成了一种新的化合物,并对该化合物在硅-氢表面光引发自组装的成膜条件进行了初步的探索,给出了化合物的光谱及核磁共振表征结果,并对自组装结果进行了接触角和AFM研究。最后评估了化合物的自组装性能,给出了可能的解释。
论文正文
[简介]
在硅氢表面进行自组装得到表面膜的技术由来已久。最早在1989年,Higashi和Chabal等人2就利用HF对硅(111)表面腐蚀得到Si-H表面,还研究了HF的pH对于Si-H表面的平整度的影响,并且首次利用FT-IR(傅立叶变换红外光谱)证实了Si-H键的存在,否定了Yablonvitch1等人认为的Si-F表面存在的结论。这种方法能够得到原子级平整的Si-H表面,为纳米组装和加工提供了非常好的基础。随后,Christopher P.Wade5等利用SPM技术得到了Si-?H表面的形貌图,起伏在0.3nm左右。而Hiroyuki Sakaue6等人则提出了消除Si-H表面缺陷的方法,并且利用超高真空STM技术作出硅氢表面的原子级高分辨象。
平整Si-H基底的得到原理如下:
首先,由Si(111)表面经过Piraha溶液热氧化而得到Si-OH表面,然后在40%的NH4F溶液中,发生如下反应:
新制的Si-H表面比较平整,与水的接触角大约在77o左右。在空气中放置容易被氧化破坏。
O2对Si-H表面的作用机理如下所示5:
当得到了平整的Si-H表面以后,就可以进行一系列的化学反应了。例如可以将长烷基链等有机分子通过化学自组装的方法形成Si-C键从而将其连接到硅表面7,8,11。
实验采用的是光反应技术9,10,即利用紫外光提供能量使Si-H键断裂,产生Si.自由基,并且与不饱和的键(例如C=C双键)进行自由基反应,从而实现Si-C键的形成,由此可以获得硅片表面的自组装膜。
原理如下所示:
此过程中要注意必须在惰性气氛中反应,否则氧气会对成膜的效果造成不好的影响9,其机理如下:
一般来说,在硅氢表面的自组装可能会出现密度不高,成膜性能不太好的情况。这与所使用的分子的性质有关。如果分子只有一个单独的官能团,那么组装的效果会比较好。但是如果分子有两个官能团,那么因为活泼基团的作用,组装的效果往往会比较差。我们的想法是合成特定官能团的两亲分子,利用LB技术成膜转移至硅-氢表面,只让我们希望反应的基团(不饱和碳碳键)靠近表面,从而使得外端基团不影响成膜效果,由此期待能够得到比较好的自组装膜,并且具有较好取向的特定表面官能团。
因此本实验所设计的有机小分子包括:
十二碳烯、12-十三炔-1-醇等。
其中,12-十三炔-1-醇则可以利用丙炔醇为原料制备,合成路线如下:
其中最后一步利用Zipper反应使中间炔键移位至端位而得到一端带羟基,另一端带三键的目标产物。
利用有机分子自组装膜,可以进行一系列的性质测量,例如电化学10以及电学方面的性质18等。
[实验部分]
1. 2-十三炔-1-醇的制备:
三口瓶中放入磁子,通入氮气20min以上除氧气;先加入干冰,再加入丙酮预冷10min;然后通NH3液化,至250mL左右。投入0.25g的Fe(NO3)3.9H2O。放入锂丝2.5g。以上混合物在搅拌下反应25min;然后升温至-40oC。缓慢滴入4.8mL的丙炔醇,控制温度在-40oC附近反应2h左右。然后升温至-30oC。缓慢滴入Br(CH2)9CH3的THF溶液(1.4mL/80mL)。控制温度在-30oC附近,反应20h左右。反应完毕将混合物倒入分液漏斗中,每次用50mL无水乙醚,一共3次进行萃取;乙醚萃取液用10%HCl溶液25mL处理,然后用饱和的NaCl溶液洗至中性;用无水Na2SO4干燥过夜;
2. 12-十三炔-1-醇的制备:
三口瓶中放入温度计、磁子和冷凝装置,通入氮气10min以上除氧气;先加入1.4gNaH,然后慢慢滴加20mL乙二胺(重蒸),并搅拌均匀;以上混合物在60 oC下反应2h;取1.4g 2-十三炔-1-醇的THF(无水无氧)溶液(大约30mL),慢慢地滴加;以上混合物在60 oC下反应2h;取1.4g 2-十三炔-1-醇的THF溶液(大约30mL),慢慢地滴加;混合物
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