Ti、Cr对钒抗氧化性能影响的第一性原理研究.pdfVIP

第 28卷 第 4期 原 子 与 分 子 物 理 学 报 Vo1．28 No．4 2011年 8月 JOURNALOFATOMICANDMOLECULARPHYSICS Aug． 2011 doi：103969／j．issn．1000—0364．2011．04．029 Ti、Cr对钒抗氧化性能影响的第一性原理研究 谢 雷 ，刘 颖 ，孙光爱 ，陈 波 ，田 强 ，罗 伟 (1．四川大学材料科学与工程学院，成都 610065； 2．中国工程物理研究院核物理与化学研究所 ，绵阳 621900) 摘 要 ：高温氧化是限制钒合金应用的主要原因之一．利用第一性原理计算 了Ti、cr杂质原子掺入钒基体 后 ，0在钒合金 中的杂质形成能的变化．结果表 明：0杂质原子在钒 中占据八面体间隙位更稳定 ，且杂质形 成能为一4．65eV，Ti掺杂会降低 0的杂质形成能 ，使 0在晶体 内部扩散更容 易，Cr掺杂的情况与 Ti掺杂 相反 ．并且还计算 了体系电子结构、布居分布和 电荷密度 ，进一步分析所得到的结论与杂质形成能的计算 结 果 一致 ． 关键 词 ：钒合金 ；氧化 ；掺 杂；第一性 原理 中图分类号 ：TL627 文献标识码 ：A 文章编号 ：1000—0364(2011)04—0771—06 A firstprinciplesstudyoftheeffectsofTi，Crdopingonthe vanadium oxidation resistance XIE Lei ，LIU Ying ，SUN Guang—Ai。，CHEN Bo。，TIAN Qiang。，LUO Wei。 (1．SchoolofMaterialScienceandEngineering，SichuanUniversity，Chengdu610065，China； 2．InstituteofNuclearPhysicsandChemistry，ChinaAcademyofEngineeringPhysics，Mianyang621900，China) Abstract：Hightemperatureoxidationisoneofthemainissuesforrestrictingtheapplicationsofvanadi— tim alloys．ThevariationsofimpurityformationenergyafterTi，Crdopingarecalculatedbyfirstprinci— ples．Theresultsshow thatthesystem iSmorestablewhenO occupiestheoctahedralsiteofV，andits impurityformationenergyis一4．65eV．Tidopingwilldecreasetheimpurityformationenergy，SOthe diffusionof0 incrystaliseasier．W hilecomparedtoTidoping，Crdopinginducesthecontraryeffect． Furthermore，theelectronicstructure，populationdistributionandchargedensityofsystem arecalculat- ed．Theresultsbyfurtheranalysisareconsistentwiththoseresultsofimpurityformation energy． Keywords：vanadium alloys，oxidation，doping，firstprinciples 生改变，已经有人从理论和实验上都研究 了纯钒的 1 引 F 高压相变 问题[2。]