ZrC/ZrB2纳米多层膜的微结构和耐磨性.pdfVIP

ZrC/ZrB2纳米多层膜的微结构和耐磨性.pdf

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维普资讯 第 27卷 第 1期 天 津 师 范 大 学 学 报 (自然科学版) 2007年 3月 JournalofTianjinNormalUniversity(NaturalScienceEdition) Vo1.27 No.1 M ar.2007 文章编号 :1671—1114(2007)01—0017—03 ZrC/ZrB2纳米多层膜的微结构和耐磨性 杨 瑾 ,李德军 (天津师范大学 物理与 电子信息学院,天津 300074) 摘要 :采用射频磁控溅射方法在 Si(1O0)基底上制备 了一系列 Z /Z 纳米多层膜和 ZrC,Z 单层薄膜.通过扫描 电子显微镜(SEM),MS-T3000摩擦磨损仪及表面轮廓仪(XP-2)研究了薄膜的微结构和耐磨性.结果表明,多层膜的界 面清晰,调制周期性好,周期为3.52nn2的多层膜摩擦系数最小,约为0.24;Z /ZrB2纳米多层膜的耐磨性优于Z 和 Zr 单层薄膜;ZrC/Z 多层膜耐磨性提高的主要原因是,调制结构中大量界面的存在,提高了薄膜的韧性,从而增强 了薄膜的耐磨性能. 关键词 :磁控溅射 ;ZrC/ZrBz纳米多层膜 ;微结构 ;耐磨性 中图分类号:TG174.444;TG174.4 文献标识码:A MicrostructureandWearResistanceofNanoscaleZrC/ZrB~MultilayeredCoatU~s YANG Jin.LJD~jun (CollegeofPhyscisandElectronicInformationScience,TianjinNomr alUniversity,Tianjin300074,China) Abstract:ZrC/ZrBzmultilayeredcoatingandmonolithicZ andZrBzcoatingsonSi(100)werepmmparde byr.f.~ etron sputtering system.Scanning electronmicmsocpy(SEM),MS-T3000frictionweartesternadprofiler(XP-2)wereemployed toinvestigatethemicrostructureandwearresistanceoftheocating s.Theresultsindicatde thatnanosacledocating poss~sde claermultilayeredstructureandgoodmodulationperiod.MultilayersamplewithA 一 3.52nnlhadthesmallestfrictioncod— ficientof0.24.Tribologiaclexperimentshowde thatrlanoscfleZrC/ZrBzmultilayerfilmexhibitdebetterwaerresistancethan thatofmonolithicZrCnadZrBzocatings.Improvementofthewaerresistanceofmultilayernanoscaledocating wasmainlydue totheincraeseofcoating stoughnessinducde bytheinterfaces. Keywortb:ma gnetronsputtering;nanoscaleZrC/ZrI~multilayers;microsturcture;waerresistnace ZrC薄膜 由于具有高硬度、高熔点、良好的导电 近几十年来

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