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碳硅共掺p型氮化铝晶体结构及光学性能研究
武红磊 郑瑞生 闫征 李萌萌 郑伟
深圳大学光电工程学院 光电子器件与系统 (教育部/广东省)重点实验室,深圳 518060
摘要:在碳化硅衬底上通过碳硅共掺杂的方式利用升华法制备出p型氮化铝晶体。通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能
谱(XPS)和光致发光(PL)光谱对样品结构和光学性能进行分析。XRD的测试结果表明晶体的生长方向为c轴方向,晶体质
量较好。霍尔测试的结果表明制备出的氮化铝晶体导电类型为p型。经过XPS测试分析,尤其是对Si2p和Cls的分析,发现
样品中C替代N的位置起受主作用,而Si替代AI的位置起施主作用。通过样品的PL谱观察到波长分别为309nm和396nm的
强发射峰。结合样品的结构以及理论计算结果,得知这两个发射峰分别来自于C和Si杂质形成的复合物VN-CN和CN-SiAl。
关t词:掺杂;p型导电;半导体;氮化铝
O474;O734+.3 A
Structuralandopticalpropertiesofp-typeAINcrystalsby
CandSicodoping
HongleiWuRuishengZhengZhengYanMengrnengLiWeiZheng
KeyLaboratoryofOptoelectronicDevicesandSystemsofMinistryofEducation/GuangdongProvince,ShenzhenUniversity,Shenzhen
518060,China
Abstract:P-typeAINcrystalsbyCandSicodopingweregrownonSiCsubstratesbythesublimationmethod.Thestructuralandoptical
propertiesofp-typeAlNcrystalswereinvestigatedwithXRD,XPSandPLmeasures.XRDresaltsshowthatc-axisorientedAlNcrystals
withhighqualityweregrown.Hall-effectmeasurementprovesthattheAINcrystalshavethep-typeconductivity.TheXPSanalysis,
especiallyaboutbindingenergiesofSi2pandCIspeaks,revealsthatCreplacesNasanaccepterandSireplacesAIasadonorinthe
AIN.WithPLspectroscopy,theemissionlinesat309rimand396nmareobserved.Combinedthestructureandcompositionthep-type
AINandrelatedtheoreticalresults,thetwolinesareattributedtothecomplexesofVN-CNandCN-SiAl,respectively.
Keywords:doping;p-typeconductivity;semiconductor;AlN
第十七J-●?■化青·■牛●L俸、—t敢●l件和先l■l件拳术●峨 开封’2012
of asafamiliar for andchemicalstate
energyMg acceptorGaN,iscrystalcomposition
above500meVinAIN.butisabout160meVcharacterization.Toreduceadsorbentssuch笛
inGaN.14,卵111ecorrelative resultsand was
02 C02,the
ex
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