快速热退火对纳米晶粒SnO2薄膜性质的影响.pdfVIP

快速热退火对纳米晶粒SnO2薄膜性质的影响.pdf

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第27卷第2期 红外与毫米波学报 V01.27.No.2 2008年4月 Millim.Waves April,2008 J.Infrared 文章编号:1001—9014(2008)02—0101—04 快速热退火对纳米晶粒Sn02薄膜性质的影响 秦苏梅1, 童梓洋1,邓红梅2,杨平雄1 (1.华东师范大学信息学院,上海200241;2.上海大学分析测试中心,上海200444) 摘要:以SnCl:·2H:O及无水乙醇为原料,利用溶胶-凝肢法在快速热退火下制备了SnO:纳米薄膜,研究了快速热 微结构、表面形貌与快速热退火条件的关联,用傅里叶变换红外光谱(Fr—IR)和光致发光研究了薄膜的光学性质. 结果表明,快速热退火(RTA)温度对薄膜的光学性质、晶粒尺寸和薄膜的结构形态均有较大的影响. 关键词:纳米二氧化锡;溶胶.凝胶法(s01.gel);快速热退火(RTA) 中图分类号:04.47 文献标识码:A EFFECToFRAPIDTHERMAL ANNEALINGON PROPERTYOF THINFILM NANO·Sn02 Su-Mei QIN 1,TONGZi—Yang1,GUO1,DENGHong.Mei2,YANG Ming Ping.Xion91 of ChinaNormal (1.Departmentelectronics,EastUniversity,Shanghai200062,China; 2.Instrumental Analysis&ResearchCenter,ShanghaiUniversity,Shanghai200444,China) O鸹mainmaterialsand thinfilmswere Abstract:ByusingSnCl22H2 ethanol鹅solvent,nano—Sn02preparedbysol—gel with thermal effectof thermal of thin techniquerapid annealing(RTA).Therapid annealing(RTA)onpropertyllano·Sn02 filmwas sizeof andthe of thinfilms grains,themicrostructure,the explored.The morphologyopticalpropertiesnano-Sn02 werecharacterized andYI一IR.Theresultsindicatethatthe andthe mi— XRD,SEM,PL by opticalproperty grain-size,the the ofthe withdifferent ofRTA. crostmcture,andmorphologysampleschangeevidently temperature thermal Keywords:Sn02;sol—gel;rapidannealing(RTA)

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