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第 卷 第 期 半 导 体 学 报 ２８ １０ 犞狅犾．２８ 犖狅．１０ 　 　 　 　 　 　 年 月 ， ２００７ １０ 犆犎犐犖犈犛犈犑犗犝犚犖犃犔犗犉犛犈犕犐犆犗犖犇犝犆犜犗犚犛 犗犮狋．２００７ 狉面蓝宝石衬底上采用两步犃犾犖缓冲层法外延生长 面 薄膜及应力研究 犪 犌犪犖  颜建锋 张 洁 郭丽伟 朱学亮 彭铭曾 贾海强 陈 弘 周均铭 　 　 　 　 　 　 　 　 　 （中国科学院物理研究所，北京凝聚态物理国家实验室，北京 １０００８０） 　 摘要：采用 技术在 面蓝宝石衬底上采用两步 缓冲层法外延制备了 面 薄膜 利用高分辨 犕犗犆犞犇 狉 犃犾犖 犪 犌犪犖 ． 犡 射线衍射技术和 散射技术分析了样品的质量以及外延膜中的残余应力 实验结果表明：样品的（ ）面的 犚犪犿犪狀 ． １１２０ 射线双晶摇摆曲线的半峰宽仅为 ， 光谱中 高频模的半峰宽仅为 －１，这些说明 面 犡 ０１９３°犚犪犿犪狀 犈２ ３９犮犿 犪 犌犪犖 薄膜具有较好的晶体质量； 射线研究结果表明样品与衬底的位相关系为：［ ］ ［ ］ ，［ ］ 犡 １１２０犌犪犖 ‖ １１０２狊犪 犺犻狉犲 ０００１犌犪犖 ‖ 狆狆 ［ ］ 和［ ］ ［ ］ ；高分辨 射线和 散射谱的残余应力研究表明，采用两步 缓冲 １１０１狊犪 犺犻狉犲 １１００犌犪犖 ‖１１２０狊犪 犺犻狉犲 犡 犚犪犿犪狀 犃犾犖 狆狆 狆狆 层法制备的 面 薄膜在平面内的残余应力大小与用低温 缓冲层法制备的 面 薄膜不同，我们认 犪 犌犪犖 犌犪犖 犪 犌犪犖 为这是由引入犃犾犖带来的晶格失配和热失配的变化引起的． 关键词： ；非极性； 射线衍射； 谱；残余应力 犌犪犖 犡 犚犪犿犪狀 ： ； ； 犘犃犆犆 ７２８０犈 ６８５５ ７８３０ 中图分类号： ＋ 文献标识码： 文章编号： （ ） 犜犖３０４２３ 犃 ０２５３４１７７２００７１０１５６２０６