X射线荧光光谱检测多层薄膜样品的增强效应研究.pdfVIP

第 26卷 ，第2期 光 谱 学 与 光 谱 分 析 Vol.26,No.2, 2006年 2月 Spectroscopyand即ectralAnalysis p2p03 February, X射线荧光光谱检测多层薄膜样品的增强效应研究 韩小元，卓尚军’，王佩玲 中国科学院上海硅酸盐研究所，上海 200050 摘 要 研究了X射线荧光光谱检测多层薄膜样品的增强效应。根据多层膜中的X荧光强度理论计算公式 编写了计算机程序，并计算了Zn/Fe和Fe/Zn双层膜样品中不同薄膜厚度时FeKa的一次荧光强度、二次 荧光强度、二次荧光与一次荧光强度比以及二次荧光在总荧光强度中比例。研究发现，在多层膜样品的X射 线荧光分析中，激发条件不变的情况下，兀素谱线的一次荧光相对强度，二次荧光相对强度和二次荧光在总 荧光强度中所占比例都随薄膜厚度及位置的变化而变化.当Fe和Zn层厚度相同时，随厚度的变化，对于 Fe/Zn样品，FeK。二次荧光强度 占总荧光强度最高为90o，而对于Zn/Fe样品这一比例最高可达 35%e 主题词 X射线荧光光谱;薄膜;增强效应;理论强度计算 中图分类号:0657.3 文献标识码:A 文章编号:1000-0593(2006)02-0353-05 FrNi/Cu/Cr和Cr/Cu/Fe-Ni两个薄膜样品系统，其中两个 引 言 样品中包含相同组分的相应薄膜厚度都相同，由于F,Ni和 X射线荧光光谱 (XRF)法作为一种快速、无损、能同时 Cr两层薄膜的位置发生交换，Fe的总荧光强度中二次荧光 测定薄膜样品组分和厚度的分析方法，在薄膜表征领域中的 所占比例也发生很大变化。最高可以达到20%以上。Boer[n] 应用越来越广泛。由于存在基体效应，多数情况下XRF分析 详细介绍了计算薄膜样品中增强效应的数学处理方法，并研 时测得的谱线强度和样品中元素浓度不成正比，这就需要对 究了波长为0.02nm单色激发条件下Fe/Gd样品中Fe的二 基体效应进行校正。XRF中的基体效应包括元素间的吸收 次荧光与一次荧光的强度比值随薄膜的位置及厚度变化的情 增强效应、样品的颗粒度和表面效应以及化学态效应等。在 况，发现Fe的二次荧光与一次荧光的比值随Fe层和Gd层 这些基体效应中，样品的颗粒度和表面效应、化学态效应通 的厚度变化而变化 过制样技术能有效地降低甚至基本消除，但元素间的吸收 铁基上镀锌层厚度的测定是钢铁行业常见的检测。本文 增强效应一般通过经验或理论影响系数进行校正。对十薄膜 研究了铁和锌以不同的厚度、不同的相对位置 相〔对于探测 样品，由于标准样品比较难以得到，采用经验系数校正基体 器)存在时，锌对铁Ka线的增强效应。由于在实际分析过程 就无法实施，因此 目前国内外主要研 丸采用非相似标样如纯 中更多使用的是连续谱,因此在本f陕 中采用X光管的原级 元素样品加上基本参数法对薄膜样品进行校正。基本参数法 i-3作为激发源.利用Bo-I的基本参数公式及数学处理方法 是基于X射线荧光强度和元素浓度之间的理论关系.通过理 编写程序计算、模拟在连续谱激发情况下，Fe/Zn薄膜中Fe 论计算对基体效应等进行校正。从2。世纪60年代末到90 Ka线的一次荧光相对强度、二次荧光相对强度、二次荧光 拜河e初，先后报道D〕了几种薄膜样品中荧光强度理论计算 在总荧光强度中所占比例随薄膜厚度及位置的变化规律。 公式。通过这些公式可以对薄膜样品中荧光强度随薄膜厚度 及位置变化的情况进行计算。目前，以这些公式为基础的几 1程序和计算参数 种商1