溅射镀膜原理及其的应用.pptVIP

磁控溅射常见问题 阳极消失 “打火” “靶中毒” 内应力 靶材成分偏离 砂孔 溅射镀膜的步骤 溅射镀膜一般有以下几步： 1. 放置膜料及装入产品 2. 抽真空：包括粗抽和精抽，一般真空度达到6.0-3以上； 3. 辉光清洗：通入惰性气体（一般为Ar),真空度1Pa左右，打开辉光清洗电源，清洗偏压及时间由素材表面状况及附着力要求决定。 4. 镀膜 5. 破真空，取产品：镀膜完成后，（待工艺要求，有时候会充入氩气冷却）对真空室充入大气，待达到大气压，打开真空室门取出产品。 磁控溅射工业应用 磁控溅射在PVD行业是应用及研究最广泛的，在装饰、工模具镀膜、太阳能、幕墙玻璃、半导体、显示屏等许多行业都有广泛的应用。在此对以上某几个方面的应用做简单介绍。 1. 装饰镀 1.1 装饰镀材料（基材） 金属：SUS、钢基合金、锌基合金等； 玻璃、陶瓷； 塑料：ABS、PVC、PC、尼龙等； 柔性材料：布，泡沫塑料、钢带等。 1.2 装饰膜种类 金属基材装饰镀膜层：TiN、ZrN、TiC、CrNx、TiCN、CrCN、TiOx等 玻璃、陶瓷装饰镀膜层：Au、Cr、TiN、ZrN等 塑料基材装饰镀膜层：Al、Cu、SUS、ITO、TiO2等 柔性材料装饰镀膜层： Al、ITO、TiO2等 磁控溅射工业应用 1.3 部分金属基材装饰膜颜色 金属基材装饰膜的种类及色调很多，下表列举了部分金属基材装饰膜的种类及颜色。 膜层种类 色调 TiNx 浅黄、金黄、棕黄、黑色 TiC 浅灰色、深灰色、黑色 TiCxNy 赤金黄色、玫瑰金色、棕色、紫色 TiN+Au 金色 ZrN 金黄色 ZrCxNy 金色、银色 TiO2 紫青蓝、绿、黄、橙红色 CrNx 银白色 TixAlNx 金黄色、棕色、黑色 TiZrAlNx 金黄色 磁控溅射工业应用 各种颜色在色度学中可以用色空间值L、a、b值来表示。 L－－明亮度：L越大，表示较白，L越小，表示较黑； a －－红与绿：a越大，表示较红，a越小，表示较绿； b －－黄与蓝：b越大，表示较黄，b越小，表示较蓝。 例如，TiN仿金色的L, a, b值在65～70、1.5~3、25~30之间。 TiC黑膜的L, a, b值在30～40、-1.0~2.0、-1.0~2.0之间。 磁控溅射工业应用 1. 磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜介绍 采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。 1. 1 抽真空 本底真空为6.0 x 10-3~5.0 x 10-3, 加热温度为150度左右。 1.2 轰击清洗 真空度：通入氩气真空度保持在2～3Pa。 轰击偏压 ：800～1200V，脉冲占空比20～75％。 轰击时间：10～15min。 1.3 镀膜 1)沉积锆底层 真空度：通入氩气，真空度保持在5.0 x 10-1Pa。 靶电压：400～550V，靶功率15～30W/CM2。 脉冲偏压：300～400V，占空比20％。 镀膜时间：5～10min。 磁控溅射工业应用 2) 镀ZrN膜 真空度：通入氮气，真空度保持在（3～5）x 10-1Pa。 靶电压：400～550V，靶功率20～30W/CM2。 脉冲偏压：150～200V，占空比80％。 镀膜时间：20～30min。 由于磁控溅射技术中金属离化率较低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围较窄。可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助镀膜源。 1.4 冷却 镀膜结束后，首先关闭靶电源、偏压电源