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刘志勇等:纳米掺杂Sn02的研究及其第一性原理的计算
纳米掺杂Sn02的研究及其第一性原理的计算木
刘志勇,郑 冀,李松林
(天津大学材料科学与工程学院,天津300072)
摘要: 利用castap软件计算了co以不同比例掺杂
面体空隙,Sn占据晶胞的顶角和中心,阴阳离子配位
sn02的电子结构,分析了掺杂及掺杂比例对改善sn02
导电性的作用,建立了纯Sn02计算模型.计算结果表数为6:3。其单晶胞如图1所示。
明:纯Sn02是一种包含离子键的共价键直接禁带半导
体;通过掺杂能够在一定程度上改变成键性质,使其具
有金属键性质,从而提高sn02导电性.其中,掺杂比
率为5%的价带到中间能级宽度最小,掺杂原子与其邻
近原子的电荷重叠区更明显,系统电子共有化程度最
高,费米能级处对电子态密度的贡献也最大,因此掺杂
比率为5%的导电性最好。
关键词: 第一性原理;Sn02;电子结构:掺杂
中图分类号:TN304.2.1 文献标识码:A
文章编号: 1001.9731(2007)增刊一0539.04
图1 Sn02单胞
1 Sn02
1 引 言 Fig singlecrystal
2.2计算方法
随着开关电器的小型化、长寿命和工作可靠性要求 文中所有的计算工作都是由Castap软件完成的。
的不断提高,尤其是AgCdO电触头材料中含有有毒金
Castap【9】软件是一个基于密度泛函方法的从头算量子力
属Cd,因此很多国家已经明令禁止使用含有Cd元素的学程序,利用总能量平面波赝势方法,将离子势用赝势
电触头,并寻找替代品,并使这种材料的综合性能高于 替代,电子波函数通过平面波基组展开,电子.电子相
AgCdO材料。在所有的替代物中AgSn02由于其优良的
互作用的交换相关势由局域密度近似(LDA)或广义体
抗电弧侵蚀性、耐磨损性和良好的抗熔焊性等性能而成 度近似(GGA)进行校正,它是目前较为准确的电子结
为最有希望的一种材料【1娟】。 构计算的理论方法‘10,111。
但是目前生产的AgSn02电接触材料仍存在缺陷, 计算步骤如下:首先利用GGA对计算模型进行结
主要是其接触电阻大,温升高,加工成型困难。接触电 构优化,使结构能量达到最低,然后在此基础上利用
阻大,温升高的主要原因在于作为电触头材料的第二相 LDA对模型进行单点能计算,与此同时计算能带结构、
的Sn02是一种宽禁带半导体(禁带宽度达3.6eV),使
总体态密度、分波态密度以及差分电荷密度,并根据计
整个电触头接触电阻变大,温升提高。 算结果分析不同掺杂比例和不同掺杂元素对sn02导电
为了解决以上问题,试验将通过掺杂sn02的第一性改善情况。
性原理计算,从寻找能够有效提高sn02电性能的掺杂
3计算结果与讨论
元素及掺杂比率入手,采用溶胶一凝胶法制备纳米掺杂
的Sn02粉,并使添加元素进入Sn02的晶格当中,使其
3.1 理想Sn02计算结果与讨论
成为典型的P型或N型半导体,达到提高Sn02导电性 本文首先计算了未掺杂Sn02的电子结构如图2所
的目的。
示,计算结果如图3~6所示。
2理论模型和计算方法
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