优化的基于模型的光学邻近矫正算.pdfVIP

第 26 卷 　第 3 期 半 　导 　体 　学 　报 Vol . 26 　No . 3 2005 年 3 月 　　 C H IN ESE J OU RNAL O F SEM ICONDU C TOR S 　　Mar . ,2005 优化的基于模型的光学邻近矫正算法 蔡懿慈 　王 　 　周 　强 　洪先龙 (清华大学计算机科学与技术系 , 北京 　100084) 摘要 : 提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法 ,该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近 影响 ,实现了线段切割和移动步长的自适应性 ,提高了系统的矫正精度及矫正速度 ,实验结果表明该算法是有效 的. 关键词 : 光刻 ; 光学邻近效应 ; 基于模型的光学邻近矫正 EEACC : 2570 　　　CCACC : 74 10D 中图分类号 : TN40597 　　　文献标识码 : A 　　　文章编号 : 02534 177 (2005) 03060 105