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维普资讯
化 学 工 程 师
Chemical Engineer 2007年 11月
文章编号:1002~1124(2007)11—0008一O3
科。
研
与 Al—Cu柱撑蒙脱土的
开
发
超声制备与表征木
景晓燕,吕维忠,谭淑媛
(哈尔滨工程大学 材料科学与化学工程学院。黑龙江 哈尔滨 150001)
摘 要:以钠基蒙脱土为原料 ,在超声波作用下制备 Al—cu柱撑蒙脱土。柱撑溶液中的n 一:
n(AI3+)为2.4,n(c):n(AI3+)为 1:9,可得到层间距 d(001)值为 1.9553nm,比表面积为 183.6m 。g 的产物。
采用x射线衍射分析 (XRD)、红外光谱 (FTIR)、透射电镜 (TEM)、扫描电镜 (SEM)和差示扫描量热 (TG—
DSC)等手段对制备的柱撑蒙脱土进行了表征,结果表明:钠基蒙脱土经反应后 ,柱撑剂进入到蒙脱土层
间,与蒙脱石骨架发生成键反应形成Si—O—Cu或Si—O—AI键 ,使得蒙脱土的层间距和比表面积都显著
的增大,热稳定性也显著地提高_『。
关键词:蒙脱土;AI—Cu柱撑蒙脱土;超声波;制备表征
中图分类号:TD985;O614 文献标识码:A
PreparationandcharacterizationofAI—Cu—pillaredmontmorilloniteusingultrasonic
JING Xiao—yan,LUWei—zhong,TAN Shu—yuan
(DepartmentofMaterialsScienceandChemicalEngineering。HarbinEngineeringUniversity,Hrabin150001,China)
Abstract:AI——Cu—-pillaredmontmorillonitewasprepraedusingNa——montmorilloniteasstartingmaterialsby
ultrasonictechnology.Thepillaringagentsolutionwerepreparedbyadding0.2mol。L~ CuCI2solution intothe
solutioncontainingAIl3polycationwith (oH~):n(AI3 ) 2.4.XRD,IR,TEM ,SEM andTG —DSC raeusedto
chraactertheAI—Cu—Pillaredmontmorillonite.Theresultsindicatethat,when (c1:n(Al3+1= 1:9,thebasal
spacingandthesurfaceareasoftheAI—Cu—PiHaredmontmorilloniteare1.9553nm and183.6m 。g~ .respec—
tively.TheAI—CupolycationsraeintroducedintothethelayerofNa—montmorillonitethroughchemicalbondsSi
— O—CuorSi—O—AIandsuchmaterialsshow enhancedbasalspacing,surfaceraeas andthermal stability.
Keywords:montmorillonite;AI—Cu—pillaredmontmorillonite;ultrasonic;prepraationandchraacterization
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