0.25微米CMOS工艺中多级栅极氧化层完整性的技术的研究.pdfVIP

指 导小组成 员名单 校 内导师 : 郑 国祥 教授 企业 导师 : 龚大卫 高级工程师 目 录 摘 要 ... … … 2 A b s t r a c 七. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . … … 3 第 一 章 引言.… 孟乙 第 一节 课 题 背 景 4 第 二节 产 品可靠 性 … … ，… … 7 第三 节 嵌 入 式 闪存记 忆 体 … … 13 第 四节 失 效 分析 … … ，.… ，.… ，，… ，.，… 16 第五节 本论文工 作介绍 … … 18 第 二 章 栅 氧化 工 艺 的基本 原理 … … 20 第一节 硅 氧 化 的原理 … … 20 第 二 节 栅 氧 化工 艺 的加 工 设 备和 加 工过 程 … … 22 第三 节 栅 氧 化 的特 性 … … 25 第 四节 本 章 小结 … … 28 第 三 章 GOI 测试 方法及相 关 理 论 的研 究… … 29 第 一节 栅 氧 化层 击 穿模 式 … … 29 第 二节 栅 氧 化 层 的击 穿 分 类 与测 试 结构 … … ，… … 32 第三 节 栅氧 化层 的测试 方 法 与 失效判 定 … … 36 第 四节 栅 氧 化层 的数据 分 析 … … ，… 42 第 五节 本 章 小结 … … 47 第 四章 CM OS 工 艺 中多栅 氧 的 Gm 改进 … … 48 第 一节 多栅 氧 CM OS 工 艺 的特 点及 存 在 的 问题 … … 48 第 二节 实验 计划 与 结 果 … … 53 第三 节 数据 分析 与 失效机 理 … … 56 第 四节 改善 措施 … … 59 第 五节 本 章 小结 … … 60 第 五 章 总 结 .， ·.… … 61 参考 文献 … … ，.. ···… … 62 致 谢 、… … 63 摘 要 超 大规模集 成 电路 (ULS I) 发展 至今 ，可 靠性 问题越来 越 突 出和 受 到重视 。 可 靠 性 测 试 分析 的 目的在 于提 高 ULS工的质 量 和可 靠 性水 平 ，分 析 所 得 数据 将 向 电路 的设计者和 制造 商提 出 旨在 消除影 响芯 片 性 能 因素 的合理 化建 议 ，并且 向用 户 指 出正确合理 的使用 方法和 维护条件 。 栅氧化层作 为 MOS 晶体管 的栅介 质 ，它 的 品质 的好坏 直 接影 响 晶体 管 的各项 特 性 ，包括开启 电压 V t，击 穿 电压等 ，另外 它对 晶片 的合格率 和可靠性影 响也 很 大 ，极 小量 的缺 陷都 可 能显 著 降低 集 成 电路 的合 格 率 和 可 靠 性 。 传统 的单一栅氧 厚度所 能提供 的器 件 已无 法满足 芯 片多样化 的需求 ，多栅氧 工 艺 (m oltip le gate ox ide)在 混 合信 号 CMOS 及 FLASH 流 程 中得 到 了广 泛 的应用 ， 给 栅氧工 艺 的可 靠性带来 了新 的 问题 。本论文 工作基 于 0.25um 以下 的线 宽世代 工 艺 ，以深亚微 米技术 来 实现 多厚度 栅氧器件 在 同一个芯 片上 的集 成 ，研 究 由于 多级栅氧 CMOS 工 艺造 成 的栅 极氧化 层 完整 性 (GOI ) 问题 ，和 可靠 性测试 出现 的 问 题 ，进 而研 究其 诱 发机 理及其 工