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电子束熔丝沉积快速制造成型技术与组织特征.pdf
碟 术I}究 2010年2月第1期
电子束熔丝沉积快速制造成型技术与组织特征
陈哲源 锁红波 李晋炜
(北京航空制造工程研究所高能束流加工技术重点实验室,北京 100024)
摘要:利用电子柬熔丝沉积快速制造技术制备了TC4钛合金薄壁结构和实体结构试样,
分析了成型技术特点,探讨了组织形貌特征及形成机制。研究表明:对于薄壁结构,采用
合理的工艺参数,获得的熔积层的宽度为7.4mm,层高为1.5mm;结构纵截面的组织形貌
特征是原始B柱状晶与沉积高度方向大约成 15。角,较为粗大,宽3~5mm,单个柱状晶贯
穿几层到十几层熔积层不等。对于实体结构,熔积间距为4.7mm时得到的试样表面较为平
整,熔积高度基本一致;试样纵截面可观察到明显的层带,而原始B柱状晶垂直向上生长。
关键词:电子束;熔丝沉积;快速制造;成型特点
TheFormingCharacterofElectronBeam Freeform Fabrication
ChenZheyuan SuoHongbo LiJinwei
(BeijingAeronauticalManufacturingTechnologyResearchInstitute,Beijing100024)
Abstract:ElectronBeamFreeFormFabrication(EBP)isna advnacedrapidmnaufacturingtechnologybasedon
elecrtonbeam weldingwithfillerwire.Inthispaper,twokindsofTC4titanium componentswereprepraedbyEB ,
oneisthin—wallpartsna dtheotheriscubicsma pleswiht lragedimension.Thedepositingchraacteristicsduringthe
process,microstructureapperana cesand formationmechnaism werediscussed in detail.Theresultsshow thata
single—cladtrackwiththewidthof7.4mm nadhteheightof1.5mlnwereproperfordepositingthin—wallparts.Th e
cross—sectionalstructureswerecomposedofprimarysolidifiedpcolumnragrainswhichderivingabout15。fromthe
depositingdirection.Th edima etersofthegrainswereintherangeof3to5mlTlwhichpresentanepitaxialgrowth
modeandcrossingseverallayers.W hiledepositinghtelragescalecubiccomponents,hteintervalwidthbetweentwo
tracksof4.7inli1ispreferableofracquiringsmooht surfacesnadunifomr heights.Distinguishedwiht thethin—wall
parts’structures,theprimarysolidifiedpcolumnragrainsinthecubicgrewvertically.
Keywords:elecrtonbeam;fuseddeposition;rapidmnaufacturing;formingchraacter
1 引言 件的成型制造与结构修复。
目前,美
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