表面等离子体近场光刻制作二维纳米阵列.pdfVIP

显微、测量、徽细加工技术与设备 Microscope，Measurement，Microfabrication＆ Equipment 表面等离子体近场光刻制作二维纳米阵列 李海军 ，林文魁 ，张晓东 ，王逸群 ， 曾春红 ，赵德胜 ，王敏锐 ，张宝顺 (1．中国科学院 苏州纳米技术与纳米仿生研究所 ，江苏 苏州 215125； 2．中国科学院 半导体研 究所，北京 100083； 3． 中国科学院 研究生院，北京 100049) 摘要 ：重点介绍了采用表面等离子体增强效应的近场光刻制作亚微米结构的二维点阵图形的技 术。在研究亚波长纳米孔阵列超透射现 象基本原理的基础上，应用有限差分时域 (FDTD)算法 数值模拟 了周期性孔阵列的电场强度分布，讨论 了纳米孔阵列所激发的表面等离子体激元提高近 场光刻分辨率的微观机制。以金膜上的亚波长纳米孔阵列作为掩模版进行 了接触式曝光 实验 ，实 际制作 出了光刻胶的亚波长二维点阵图形，点阵图形的直径约为 300nm，周期约为 700nm。这 种新型的微纳加工技术具有应用简单、成本低等特点，在大规模二维纳米点阵的制作方面有一定 的应用潜力 。 关键词：表面等离子体；近场光刻；纳米孔阵列 ；二维纳米阵列；金膜 中图分类号 ：0436 文献标识码 ：A 文章编号 ：1671—4776 (2010)01—0060—04 TwoDimensionalNanoarrayFabricatedbyNear-Field LithographyTechnologyBasedonSurfacePlasmon LiHaijun’～，LinWenkui’。。，ZhangXiaodong ，WangYiqun ， ZengChunhong ，ZhaoDesheng’，W angM inrui，ZhangBaoshun (1．SuzhouInstituteofNano—TechandNano—Bionics，ChineseAcademyofScience，Suzhou215125， China；2．InstituteofSemiconductors，ChineseAcademyofScience，Beijing100083，China； 3．GraduateUniversity，ChineseAcademyofScience，Beijing100049，China) Abstract：Thenear—field lithography technology based on thesurfaceplasmon tO fabricatethe sub-micron tWO dimensionallattice pattern wasintroduced．Based on the principle ofextraordinary transmission，electricalfielddistribution oftheperiodicholearrayswassimulatedandcomputed byfinite—differencetime—domainmethod，andthemicromechanism ofsurfaceplasmon enhanced transmissionofthenear—fieldlithographywasdiscussed． Sub—wavelengthholearrayswerefabri— eatedontheAufilm asamaskforacontactexposureexperiment，andthesub—wavelength two dimensionallatticepatternofthephotoresistwasmade．Thediameterofthe latticepattern is a·bout300nm ，andtheperiodisaround700nm． Thenew micro-nanopr