磁控溅射Ti%2fTiN多层薄膜制备及其性能与研究.pdfVIP

摘要 摘要 近年来，薄膜多层结构的研究引起了研究者极大的关注，成为薄膜材料的 研究热点之一。多层周期结构薄膜材料具有任何单一成分薄膜难以达到的各种 特殊性能，能满足各种特殊应用的需求。其中，TiffiN多层周期结构薄膜是Ti 和TiN薄膜垂直于薄膜方向上交替生长而形成的纳米多层结构，Ti／TiN多层周 期结构薄膜具有Ti和TiN所表现的硬度和耐磨性能，而且这种软硬相间的Ti伍N 多层周期结构薄膜具有良好的韧性、耐热、耐腐蚀、优异的光学和电学性能， 是单层Ti薄膜或TiN薄膜所不能兼备的。以往的研究主要集中于提高TiffiN多 层周期结构薄膜的硬度、摩擦性能等方面，并取得了一些较好的成果，但在Ti／TiN 多层周期结构薄膜的电学性能、光学性能方面的研究和探索则明显不足。 ‘ 本文通过正交实验得到单层TiN薄膜制备的基准工艺参数，并研究了工艺 参数对TiN薄膜结构及其光学和电学性能的影响。探究了磁控溅射法制备薄膜 的成膜规律，建立了粒子溅射速率模型，研究了薄膜生长机制，并通过实验结 果验证了粒子溅射速率模型的正确性，为制备高质量Ti用N多层周期结构薄膜 提供了一定的实验基础。 采用己获得的薄膜制备基准工艺参数，制备了不同调制结构的Ti爪N多层 周期结构薄膜，并对TiffiN多层周期结构薄膜的物相、表面形貌、薄膜厚度和 表面原子化学状态进行表征，对薄膜进行了深度分析，研究表明所制备的薄膜 是多层周期结构。研究了薄膜内应力，研究表明随着衬底温度的升高，薄膜内 部的压应力逐渐减小，并讨论了减小薄膜内应力的方法。 通过对Ti／TiN多层周期结构薄膜进行光学和电学性能的分析，得到薄膜制 备工艺、薄膜结构与薄膜光电性能的相关关系，结果表明随着溅射过程中衬底 温度的升高，Ti爪N多层周期结构薄膜方块电阻减小，而周期薄膜的电阻率显著 降低，表面形貌比单层薄膜更加致密均匀；薄膜红外反射率与薄膜的电阻率有 关，当薄膜电阻率减小时，薄膜红外反射率增大，且随薄膜表面粗糙度的增大 而减小；电阻率随着周期数的增大而减小；周期层数增加时薄膜近红外反射率 增大，当达到一定层数时，近红外反射率变化不大；当调制周期为25nm时，薄 膜方块电阻最小，同时薄膜红外反射率最大。 研究了Ti用N多层周期结构薄膜的腐蚀性能，得到薄膜制备工艺和薄膜结 l 摘要 构对薄膜耐腐蚀性能的影响，研究表明随着衬底温度升高，薄膜的耐腐蚀性能 有显著提高；靶材的溅射功率较高时，可以沉积得到较致密的膜层，其耐蚀性 也得到提高；当调制周期为25nm，调制比为1：2时，薄膜的耐腐蚀性能最好； 随着周期薄膜周期层数的增加，薄膜的耐腐蚀性能增强。 关键词：磁控溅射；T圹riN多层周期结构薄膜；光学性能；电学性能：腐蚀性能 ABSTRACT ABSTRACT In in filmshasattracted recent slmc眦thin years．thestudymultilayer considerableattentionasoneofthehotresearch materialof projects．The multilayer thin has various uses． films whichCallmeettheneedsof specialproperities special Thereisno Call withthe films’． single