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Multiple-bit Upset Induced by Swift Heavy Ions in SRAM.pdf
112 IMP HIRFLAnnualReport 2009
。C.ThecurvesinFig.1showstheelectronicstoppingpoweroftheKr—ionswithdifferentenergyatdiffer—
entdepth beneath TiO2 crystal,and the dots on each curve indicate the position where the etching
stopped.Fig.2showsthepicturestaken bythemicroscope OlympusBX51 ofthemaskgridsmadeof
goldorcopper a 1 ,b 1 ,c 1 ,thecrystalirradiatedwithrelatedmasksbeforeetching a 2 ,b 2 ,
c 2 andthecrystalirradiatedafteretching a 3 ,b 3 ,c 3 ,respectively.
Theresultsoftheexperimentsindicatesthattheionbeam lithographytechniqueespeciallyusinghigh
energyionsisaprom isingmethodinfabricatingnano—andmacro—structureinrutileTiO2.However,more
experimentsareneededtoacquirethebestirradiationandetchingparameters.
RefeFences
[1]J.Jensen,M.Skupifiski,eta1.,Nuc1.Instru.andMeth.,B266 2008 3113
[2]K.Nomura,T.Nakanishi,eta1.,PhysicsReview,B68 2003 064106.
3__25 M ultiple。-bitUpsetInducedby
u
SwiftHeavyIonsin SRAM
ZhangZhangang,GaoShanshan,LiuJie,SuHong,HouMingdong
SunYoumei,ChangHailong,DuanJinglai,MoDan
YaoHuijunandZhangling
Multiple—bitupset MBU ,oneofsingleeventeffects SEEs ,occurswhensingleenergeticparticle
inspacestrikessensitiveregionsofhighdensityspacebornedigitalm icroelectronicsand producesenough
chargeswhicharesharedbyphysicallyadjacentcellscausingmorethanonebiterror.Itisharmfulto
spacecraftbecauseitincreasestheupsetcrosssectionandcannotbecorrectedbysimpleone—-biterrordetec——
tionandcorrection EDAC algorithms.
0
LET MeV cm /mg Angle
Fig.2The correlation between MBU ratio and the
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