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GaN HFET的性能退化.pdf
维普资讯
纳米器件与技术
NanoelectronicDevice Technology
GaNHFET的性能退化
薛舫 时
(南京电子器件研究所 单片集成电路与模块国家级重点实验室,南京 210016)
摘要:在综述大功率A1GaN/GaNHFET性能退化实验结果的基础上,研究了器件退化与 电流崩
塌间的关联。分析了现有各类器件失效模型的优点和不足之处。通过沟道 中强电场和热电子分布
的研究,完善 了热电子触发产生缺陷陷阱的器件退化模型。使用这一模型解释 了实验 中观察到的
各类性能退化现象,指出优化设计异质结构可以有效减弱 GaNHFET的性能退化。最后提 出减
弱器件性能退化 的方法和途径 。
关键词:CaNHFET;性能退化;退化机理;沟道中的强场峰 ;热 电子;能带剪裁;极化 电荷 ;
电流崩塌
中图分类号:TN386;TN304.23 文献标识码 :A 文章编号:1671.4776 (2007)l1.0976.09
PerformanceDegradationsinGaN HFET
XUEFang—shi
(Na~ondKeyLaboratoryofMonolithicIntegratedCircuitsandModulesNanjingElectronicDevicesInstitute,N~#ing210016,China)
Abstract:From naalyzingtheexperimentsforperformancedegradation in A1GaN/GaN HFET,the
relationshipbetweendergadationandcurrentcollapsewasinvestigated.Themeritsnaddeficienciesofr
variousdegradationmechanismswerenaalyzedand compared.Th roughtheinvestigationofrelectric
fieldandhotelectronprofileinchnanel,adegradationmechanism oftrapsinducedbyhotelectronsat
hihg electricfieldwasperfected.Variousperfomrancedergadationsobserved inexperimentsare
explainedbyusingthisdergadationmechanism,from whichanew design toweakentheperformance
dergadationinGaN HFETthroughoptimizationofheterostructureisestablishde.Atlastvariousmeans
toimprovehtereliba ilityofGaNHFETwereproposed.
Keywords:GaN HFET;perfomr ancedergadation;degradationmechanism;high electricfieldpeakin
channel;energybnadtailoring;polarizationchrage;currentcollapse
EEACC:2560S;2520D;2550E
l 引 言 HFET显著增大了输 出功率,最高的器件输出功率
密度 已超过 40W/mm ”【,比GaAs。InPHEMT器
A1GaN/GaN异质界面上的大能带带阶和强极
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