微纳米压印聚合物波导微环谐振器研究.pdfVIP

第五届伞国颦料光纤、聚合物光子学会议论文集 中国·长春2009年8月17只一20日 微纳米压印聚合物波导微环谐振器研究1 滕婕1．一，韩秀友1一，王凌华1一，张洪波2一，王锦艳2一，蹇锡高2．一，赵明山1,32 (1大连理工大学物理与光电工程学院，大连，116024 2大连理工大学化工学院，大连，116012 3大连理工大学光子技术研究中心，大连，116024) 摘要：在成功研发出一类具有低光学损耗、良好成膜特性和可热／光双固化的纯液态高性能聚合物 光波导材料PSQ-Ls的基础上，对紫外微纳米压印工艺制备聚合物基集成光波导器件进行了实验研 究，成功制备出聚合物波导微环谐振器。实验测试该器件直通端口和下载端口的消光比分别为6dB 和18dB，品质因子Q值为4．2×104，从测得的谐振滤波光谱分析得出环形波导的散射损耗约为 1．6dB／cm。研究结果表明，微纳米压印工艺是一种高效、低成本的聚合物基集成光子器件制备技术。 关键词：聚合物；微纳米压印；微环谐振器 0引言 有机聚合物是一类极具性能优势和应用前景的光子学材料，它具有成本低、成膜性好、可与多 种不同衬底材料匹配、易集成等优点，同时它提供了一个理想的平台，通过分子结构设计或选择掺 杂等手段可获得具有新型功能(如高非线性、高增益等)的光子学材料。随着近年来高性能聚合物 光子学材料的突破，聚合物集成光子器件性能获得了极大的提高。聚合物光子学领域的研究，受到 人们的极大关注，并成为目前国际上光子学材料与集成光子学功能器件研究与开发的最活跃的前沿 领域之一【1~51。 通常聚合物集成光子学器件的制备多采用传统无机材料光子学器件(如硅光子学器件)的加工 工艺，如光刻一刻蚀(RIE刻蚀或ICP刻蚀)技术【4J或压印光刻技术(Nano-imprintLithography) 与刻蚀工艺相结合的制造技术16]，这些技术无法充分发挥聚合物材料的优势。对于极微小尺寸器件 的制备，虽然一些先进的工艺(如极端紫外光刻、x射线光刻、电子束刻蚀等技术【7，8J)可以达到纳 米量级，然而这些技术的设备系统昂贵，加工成本非常高，这在一定程度上也妨碍了微纳集成聚合 物光子学器件的广泛应用。 technology，主要包括热压印、微接触压印和紫外压印等) 微纳米压印技术(micro．nano-imprint 是聚合物基集成光子学器件较理想的制造技术19~121，它充分利用了聚合物材料良好的成膜特性和可 塑成形特性，采用一次压印成形工艺将模具的波导图形直接转移到聚合物膜层来获褥集成光子学器 件，避免了传统光刻一刻蚀工艺中的复杂步骤，同时具有成本低、分辨率高、加工尺寸范围宽、可 实现三维结构制作等特点，适用于大批量的工业化生产，在未来高分辨率纳米级微结构加工领域具 有广阔的应用前景。 本文在成功研发出一类具有低光学损耗、良好成膜特性和可热／光双固化的纯液态高性能聚合物 光波导材料PsQ．Ls的基础上，对紫外微纳米压印工艺制备聚合物基集成光波导器件进行了实验研 究。设计并制备出具有优良滤波功能的聚合物波导微环谐振器，对器件的滤波特性进行了测试分析。 1037)和大连理工大 1国家自然科学基金(NoNo、教育部高校博士点新教师基金(No 学引进人才启动基金(No．893322)共同资助课题。 2 E-mail：mszhao@dlut．edu．cn 第iR耷国肇科光纤、雅台物光予学会u论文兆 中嗣-长春2009年8月17口—20口 1聚合物P$0一Ls光学材料 体系PsQ’LL和扁折射率体系Pso’LH构成，这婀种村}I按照定的比例溜台，聚合物材科折射半 可咀实现I454--I 515范啁内良好的线性调谐，表I给出，这州种材料的主要特性参数。PsQ-Ls村 料是纯液态聚合物，可以血接旋涂成膜，因此可以避免通常聚合物材科采用有机溶剂溶解成膜过程 中，溶剂吸水对波导薄膜质最的破坏，吲时也避免了在压印成肜过科中溶剂排出等问题。该类村料 ar采用热、光两种方式进行IN化．太大增加了波导制备的炙活性。