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- 2017-08-21 发布于安徽
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2007年上海市电子电镀学g.-if-会论文集
以甲醛和次磷酸钠为还原剂,所得镀层的电阻率、抗拉强度和延伸率。表中的每个数据均为三个不同样品测定结果的平
均值。结果表明:以甲醛为还原剂的铜镀层物理性能均优于以次磷酸钠为还原剂的镀层。显然,次磷酸钠化学镀铜层中
镍的存在导致了镀层物理性能的下降。因此,以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜工艺更适宜应用于装饰性或对导电率要求
相对不高的行业领域。
3结论
评价化学镀铜工艺及镀层性能是实现该技术工业应用的重要基础。比较并评价了以甲醛和以次磷酸钠为还原剂的化
学镀铜工艺。指出:次磷酸钠化学镀铜液的稳定性和沉积速率均高于甲醛镀液;以甲醛为还原剂的镀层晶粒细小,而以
次磷酸钠为还原剂的镀层呈团粒状;甲醛化学镀铜层铜的质量百分含量接近100%,而次磷酸钠化学镀铜层中铜的质量
百分含量为93.9%,镍的质量百分含量为6.1%,镀层为铜镍合金;以甲醛为还原还原剂的化学镀铜层的电导率、抗拉
强度、延伸率等物理性能均优于次磷酸钠化学镀铜层,因此,次磷酸钠化学镀铜工艺更适宜应用于对导电性要求相对较
低的行业。
参考文献
1郭忠诚,刘鸿康,王志蓖王敏.电镀与环保,1999,16(5):8.
2HsuH K S et
H,LinH,LinQa1.J.Electroc
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