Fe掺杂量和退火氛围对TiO2薄膜晶体结构和磁性能的影响.pdfVIP

2014年 1O月 材 料 工 程 0ctober2014 第 1O期 第 101—105页 JournalofMaterialsEngineering No．10 PP．101——105 Fe掺杂量和退火氛 围对 TiO2 薄膜晶体结构和磁性能的影响 InfluenceofFe—dopingandAnnealing AtmosphereonCrystallineStructure andMagnetism ofTiO2ThinFilms 顾建军 ，刘鹏飞，韩金荣 ，杨淑敏 ，韩 伟，岂云开 (河北 民族师范学院 物理系，河北 承德 067000) GU Jian—jun，LIU Peng一{ei，HANJin—rong， YANG Shu—min，HAN Wei，QIYun-kai (DepartmentofPhysics，HebeiNormalUniversityfor Nationalities，Chengde067000，Hebei，China) 摘要 ：采用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备 了不 同Fe掺杂量 的TiO 薄膜 ，并对薄膜分别在空气和真空氛 围下 500~C进行 30min退火处理 。研究了Fe掺杂量和退火氛 围对 TiO。薄膜的结晶状态、表面形貌和磁性能的影响。结果表 明，真空 中500℃下退火 的 Fe掺杂 的TiO 薄膜表现为非 晶态结构 ，没有观察到室温铁磁性能 的出现 ，而空气中 500℃退 火 的样 品显示出 良好的结晶状态 ，且所有掺杂 的样 品均显示 出室温铁磁性，并且随着 Fe掺杂量的增加 ，TiOz薄膜 的晶 体结构逐渐由锐钛矿相 向金红石相转变。 关键词 ：稀磁半导体 ；晶体结构 ；铁磁性 ；退火氛围 doi：10．11868／j．issn．1001—4381．2014．10．018 中图分类号 ：0484．4 3 文献标识码 ：A 文章编号 ：1001—4381(2014)10—0101-05 Abstract：FedopedTiO2thin filmswerefabricatedontheglasssubstratesbyDC magnetron sputte— ring，andwereannealedinairandvacuum at5OO~C for30min，respectively．TheeffectsofFecontent andannealingatmosphereon thecrystallization，themorphology andmagnetism ofTiO2thin films wereinvestigated．Theresultsshow thattheFedopedTiO2thinfilmsannealedinvacuum at5oo~C ex— hibitaamorphousstructure，andnoroom temperatureferromagnetism isobserved，butthesamples annealedin airshow good crystallization，androom temperatureferromagnetism isobserved in all samples．W iththeincreasingofFedoping，thestructureoftheTiO2thin filmsischangedfrom ana— tasetorutile． Keywords：dilutedmagneticsemiconductor；cry