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2017-08-20 发布于湖北
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微弧氧化法制备磁性薄膜及其组成结构分析.pdf

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微弧氧化法制备磁性薄膜及其组成结构分析.pdf

年增刊 ( )卷１５４２０１４ Ⅱ ４５ : ( ) ( ) 文章编号１００１刊 Ⅱ Ｇ１５４Ｇ０４微弧氧化法制备磁性薄膜及其组成结构分析∗ , １２１１１１２ , , , , , 陈志彦向洁琼吴义强谢力生杨亿李文芳　 ( , ; , ) 中南林业科技大学材料科学与工程学院长沙华南理工大学材料科学与工程学院广州１．４１０００４２．５１０６４０ : , , . , 、摘要以钛金属作衬底溶液为主要原料膜研究磁性薄膜的制备工艺并对它的组成结构和　　 FeSO４ , . 采用微弧氧化法制备了磁性薄膜薄膜的饱和磁化强性能进行表征２ / . . 度为７７．７A m kg 探索了薄膜的形成工艺运用实验２　　、、和等手段表征了磁性薄膜的组成 IRXRDXPS SEM , ( ) 、 , 、和形貌结果表明磁性薄膜主要由FeO 和 FeO 将纯钛金属片用粗砂细砂打磨接着用酸洗再３４２３ x , . 、 , ２H O晶体组成表面比较光滑致密简要推断了用蒸馏水清洗干净吹干将处理后的钛金属片放入２ . , , 磁性薄膜的形成机理 FeSO４溶液中接通电源控制适宜的工艺参数进行微 : ; ; ; , 、 , 关键词微弧氧化法磁性薄膜组成结构分析氧化弧氧化然后把钛金属片取出用蒸馏水冲洗吹干即　铁可制得厚度约为几到几十个微米的薄膜. : : , 中图分类号　TG１３２．２文献标识码 A XRD分析在 PhiliXＧert衍射仪上进行测试参