N2流量对室温磁控溅射制备Ti-N薄膜太阳能光谱吸收特性的影响.pdfVIP

第43卷 第 9期 稀有金属材料与工程 Vo1．43， No．9 2014正 9月 RAREMETAL IATERIALSANDENGINEERING September2014 N2流量对室温磁控溅射制备Ti．N薄膜 太阳能光谱吸收特性的影响 王 轩 ，董国波 ，张 敏 2，高方圆 ，朱敦智2，刁训刚 (1．北京航空航天大学，北京 100191) (2．北京市太阳能研究所集团有限公司，北京 100012) 摘 要：利用非平衡磁控溅射技术，在室温条件下制备了一系列不同Nz流量的Ti-N薄膜，研究了Nz流量对薄膜微观 形貌和光学性能的影响。根据分析结果设计并制各了四层结构的Ti．N太阳能选择性吸收薄膜，通过软件对薄膜进行了 优化设计并进行了实验验证。结果表明，随着 N2流量的增加，薄膜的微观形貌发生变化，逐渐出现气泡状沉积物及气 泡破裂状形貌，直至变为无定型态。通过紫外．可见．近红外光谱分析可知，选用合适的工艺可有效提高太阳能吸收薄膜 光学性能，利用软件对薄膜进行优化设计可使薄膜光学性能获得进一步改进，经过优化的薄膜吸收率达 0．9048，可用 作太阳能光谱选择性吸收薄膜 。 关键词：磁控溅射 ：室温；氮化钛 ；选择性吸收薄膜；优化设计 中图法分类号：TB43；0484．4l 文献标识码 ：A 文章编号：1002．185X(2014)09，2242．05 Ti．N 薄膜是一种金属陶瓷复合膜，常用作工具 靶为纯度99．99％，直径 101．6mm的圆形平面靶，靶 ／ 零件 的硬质表面和各类器件 的导电膜…。近年来随着 基距固定在 100mm。电源采用国产 5kW 直流源。溅 太阳能热发电技术的发展 ，Ti．N 薄膜因具有高热硬 射气体为 Ar，纯度 99．999％，反应气体为 N2，纯度 度、高耐磨损性和 良好的化学惰性，可用作高温工作 99．999％。实验中选用载玻片作为基底制作 了样品。 的太阳能光谱选择性吸收膜 [2]。通过调节 Ti．N薄膜 中 基底在实验前均进行了20min无水乙醇和 15rain去 N的含量，使填隙N原子对光的散射产生影响发生变 离子水超声清洗，然后在 150℃下烘烤 0．5h。实验中 化，薄膜可以显示出不同的太阳能光谱吸收特性。 本底真空小于 3．0×10～Pa，通入溅射气体后 ，随着功 目前制备该薄膜的方法有蒸发镀膜、化学气象沉 率增加，辉光颜色逐渐 由淡粉色变为蓝白。为获得稳 积、磁控溅射和离子注入等 3【】。高温下沉积 Ti．N 薄 定的实验条件，在高功率下预溅射 8min，然后充入 膜有利于降低薄膜内应力，提高薄膜力学性能和结合 反应气体 N ，可观察到辉光颜色 由蓝 白色变为橘红 强度 4【】。但在太阳能选择性吸收薄膜的工业制备上， 色，通过调节N 流量来控制金属陶瓷复合膜 的金属组 由于基底难以承受高温，高温沉积方法受到限制 。室 分含量。溅射完毕 自然冷却后取出样品。 温下制备高性能的 Tj．N薄膜在 国内外研究中仍是一 采用 日立 S-4800SEM 扫描 电镜进行表面形貌测 个难点。 试 ；采用 日立UV4100紫外．可见．近红外分光光度计进 本实验采用非平衡磁控溅射技术，在室温条件下沉 行吸收率和反射率测试 ；采用美国AMBIOSTechnology 积了一系列不同N2流量的Ti．N薄膜，研究了N2流量对 公司生产的 XP．1型台阶仪进行薄膜厚度测量；采用美 薄膜微观形貌和光学性能的影响，根据分析结果设计并 国DevicesServices公司生产的EmissmeterModelAE 制备了四层结构的Ti_N太阳能选