钼靶材变形量及热处理对薄膜微观组织及性能的影响.pdfVIP

第 32卷第5期 粉末冶金技术 Vo1．32．NO．5 20l4年 10月 PowderM etallurgyTechnology 0ct．2014 钼靶材变形量及热处理对薄膜微观 组织及性能的影响 刘仁智 ’’一 王快社 ’ 孙 院军 1)(西安建筑科技大学 ，陕西 西安 710055) 2)(金堆城钼业股份有限公司技术 中心，陕西 西安 710075) 摘 要 ： 通过研 究靶材变形量及热处理工艺对溅射薄膜的微观组织 、表面粗糙度及晶形的影响，结果表 明： 变形量为80％的钼靶材溅射制备的薄膜晶化程度优于变形量小的靶材溅射薄膜 ；溅射相同的薄膜厚度 ，随着 靶材变形量的增大，溅射薄膜 的方阻越大 ；1100℃退火靶材溅射薄膜 的粗糙度最小，表面颗粒最细小均匀， 晶粒取 向明显。 关键 词 ：钼 ；靶材 ；微观组织 ；溅 射 ；性能 Effectofdeformation andheattreatmentofmolybdenum targeton themicrostructureand propertiesoffilm LiuRenzhi ，WangKuaishe ．SunYuanjun。 1)(XianUniversityofArchitectureandTechnology，Xian710055，China) 2)(JinduichengMolyCo，LTDTechondogyCenter，Xian710075，China) Abstract：The effectsof deofrmation and heattreatmentofmolybdenum targeton the microstructure， surface roughnessand crystallineform ofsputteredfilm werestudied．Theresultsshow thatcrystallizationoffilm sputteredby targetwithdeformationratioover80％ isbetterthan thatofbelow 80％ ．Whenthe sputteringfilmsthicknessisthe same，thesheetresistanceofsputtedfilm increasewith increasingdeformationofMotarget．The filmssputtered by Motargetannealedat1100oC havethelowestroughness，thefinestsurfaceparticlesandobviousgrain orientation ． Keywords：Mo；target；microstructure；sputter；property 溅射靶材主要应用于电子及信息产业 ，如集成 仅与溅射设备与工艺有关 ，而且与靶材的质量密不 电路 、信息存储 、液晶显示屏 、太阳能电池 、激光存储 可分 ，其中包括靶材 的纯度要求在 99．95％以上 ，靶 器 、电子控制器件等 ，亦可应用于玻璃镀膜领域 ，还 材的密度接近理论密度 ，平整度 、均匀性等多项指标 可以应用于耐磨材料 、高温耐蚀 、高档装饰用品等行 均对其薄膜有着很大影响。对靶材品质要求极高的 业 。钼金属靶材溅射薄膜因具有耐玻璃腐蚀 、耐 电子及信息产业 中如集成电路 、液晶显示屏对靶材 高温和导 电性能好的优点而成为太阳能电池膜层 中