恒电位法电沉积聚8-羟基喹咻薄膜.pdfVIP

Vro-．33 No．24 【研究报告】 恒电位法电沉积聚8一羟基喹啉薄膜 刘小勤 ，黄凤祥 一，曾冬铭 一，黄发军。，刘中兴 (1．江西瑞林稀贵金属科技有限公司，江西 南昌 330031； 2．中南大学有色金属资源化学教育部重点实验室，湖南 长沙 410083； 3．中南大学化学化工学院，湖南 长沙 410083：4．特能宝化学原料有限公司，广东 佛山 528000) 摘要：采用恒电位法在镀镍工件表面常4备聚8一羟基喹啉薄膜。 corrosion resistanceofthe thin film obtained underthe 研究了沉积电位、8一羟基喹啉浓度、NaOH浓度、沉积时间等 optimalconditionsiSslightlybetterthna thatofthethinfilm 工艺条件对薄膜耐蚀性的影响。分别采用盐水周浸泡试验、三 preparedbycyclicvoltammetricmethodnadfarsuperiorto 氯化铁缝隙试验和 Tafel极化曲线法对比研究了恒电位法电沉 thatoftheun—elecrtodepositedworkpiece． 积试样、循环伏安法电沉积试样和空白工件的耐蚀性。采用扫 Keywords：elecrtoplatednickelcoating；8-hydroxyquinoline； 描电镜表征 了聚8一羟基喹啉薄膜的表面形貌。恒电位法沉积的 thinfilm；polymerization；electrodeposition；constantpotential 最佳工艺条件为：8-羟基喹啉 2mmoUL，NaOH0．4mol／L，电 mehtod；corrosionresistance 位0．5v，时间300S，室温。采用最佳工艺所得薄膜的耐蚀性 Fl’rst-author’S address：JiangxiNerinPreciousMetals 略优于循环伏安法试样 ，远优于空白工件。 ScienceTechnologyCo．，Ltd．，Nanchang330031，China 关键词：镀镍层；8-羟基喹啉；薄膜；聚合；电沉积；恒电位法； 耐蚀 性 金属工件进行镀镍处理后，其耐磨性和光亮度得 中图分类号；TQ153．19 文献标志码：A 以提高，因此工件镀镍处理量仅次于电镀锌川。镍在电 文章编号：1004—227X(2014)24—1041—04 EleetrodepositionofpOly-8一hydroxyquinolinethinflim 沉积过程中，按梗球无规则密堆积模型进行，会不可 by constantpotentialmethod ／／LIU Xiao．qin．HUANG 避免地造成表面层存在一些细微的孔洞2【】。由于电镀镍 Feng—xiang，ZENG Dong—ming，HUANG Fa-jun，LIU 层相对于钢铁而言为阴极性镀层，孔隙有利于 电化学 Zhong—xing 腐蚀的发生，因此工业上不锈钢基体镀镍后常需要进 Abstraet：A poly．8．hydroxyquinolinethin film was 一 步进行封孔钝化处理 j。 prepared on nickel—plated workpieeeby constantpotential method．Theeffectsofprocessconditionssuchasdeposition 电沉积技术 目前已广泛运用于生成合金材料 5【J、 potential，8-hydroxyquinolineandNaOH concentrations，as 纳米材料 】、聚合物材料[10-