磁膜厚度对磁性能影响的验证.pdfVIP

技市与应用 ECHNOL0GY ^PP ICATION 磁膜厚度对磁性能影响的验证 ProbationofMagneticPerformanceDepended on MagneticFilm Thickness 高适供稿 摘 要 ：文章介绍了一种采用射频磁控溅射技术制作的CoFeBN纳米晶软磁薄膜 ，检测了其厚度 与磁性能的关系 检测 揭示，该磁膜的矫顽力在临界厚度时会陡然升高，但在其微观结构方面却没有任何明显的差异 、此外，检测发现， B、N的含量增大．可以减小临界厚度。这些磁特性与磁膜的剩余应力有密切关系。、 关键词 ：软磁薄膜 ，磁性能 ，厚度，验汪 中图分类号 ：TM27 立 献标识 码 ：B 立童编号 ：1606—7517(2014)10—2—139 1引言 采用电子潜仪 (AES)、X射线衍射仪 (XRD)、透射电 镜 (TEM)等仪器分析磁膜的组成成分干¨微观结构。用磁强 电子设备干¨电子器件的迅速发展，要求磁元件进一 汁 (VSM)测定样 的磁性能 J+】传统的 点探测法测量电 步提高性能，如提高工作频率和实现小型化。要提高软磁 阻率 ) 用 d—step(Tencor，p-1())测量磁膜的厚度和剩余 薄膜的性能，不仅要求软磁薄膜具有高的电阻率 (p)，还 应力 需要有高的饱和磁化j虽度 ()和各ruj异性场 ( )。目前， FeXN (x为过渡金属)磁膜在数百兆频率范围具有优良的 3磁膜性能的讨论分析 软磁性能，但当把它们应用到GHz频段的磁器件中时，其 1(a)所示为不同成分和磁膜 度的CoFeBN磁性薄 各向异性场 0 得太低。实验表明，纳米晶CoFe基系材 膜的B 和P曲线 正如以上分析，成分中的B、N含量高 料是提高各ruJ异性场性能的优良薄膜材料。但是，CoFe基 则会降低 (4耵Ms)值． 提高P值 ；但是 ，磁膜的厚度 磁膜的磁致伸缩系数通常都较大，即使是纳米晶结构也是 变化则不会改变 B值和P值。然 ，如图 l(b)所示．矫 如此。磁性薄膜的软磁性能与磁膜的厚度密切相关。在此 ， 顽力 (H)的高低J{!I】与膜厚密切卡H关、女Il100nm厚的磁膜 ， 我们仅选择介绍 (Co；Fe)1O0一 BN 软磁薄膜的磁性能与 H~5(oe)，可是在某个厚度 (临界厚度 1时， 值陡然升高 磁膜厚度的关系。 并且，这个临界厚度与磁膜的成分有关 ，随着材料成分中B、 2磁膜的制作与性能检测 N含量的增加，其临界厚度将减薄 l(b)中的黑点圆 a磁膜制作 就代表磁膜临界厚度的范 _}}j4”的CoFe合金靶和B片，输入功率450W ，在环 图2(a)所示为 (CoFe)B N 合金的磁化曲线随磁 境压力小于 10 的N，+Ar气氛中按反应射频磁控溅射法制