空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO2薄膜（上）.pdfVIP

YoshiyukiKubo，Yoshinorilwabuchi，MasatoYoshikawa，eta1．Highratedepositionofphotocatalytic TiO2filmswithhighactivitybyhollow cathodegas—flow sputteringmethod．JournalofVacuum Science TechnologyA，2008，26(4)：893—897． 空心阴极气流溅射法快速沉积 具有高活性光催化作用的TiO2薄膜 (上 ) 清华大学：萎 摘 要：光催化剂TiO 薄膜是用两个平行Ti靶的空心阴极气流溅射方法沉积而成，氩气和氧气流量分 别是3000sccm和0～50sccm，在沉积过程中总气压维持在45Pa。在氧气流量为30sccm时， TiO 膜最大沉积率为 162nm／min，之后在空气中300℃，1h进行退火工艺，用来作光催化分 解乙醛 (CHCHO)，和一般反应溅射相比，后退火膜显示出非常高的光催化作用。 关键词：空心阴极气流溅射；沉积；光催化；TiO 0 引言 积率的技术，一些研究报告采用GFS沉积氧化 氧化钛在UV线照射下具有很强的光催化 物或一些金属薄膜。该技术是基于空心阴极放 作用，在各种应用中用作光催化剂，如建筑物 电及气流驱动的物质传输 ，空心阴极放 电可发 和汽车玻璃抗雾、自清洁、杀菌作用。通常湿 生于管中，或一对面对面矩形平板 中，气体压 性工艺如浴胶 一凝胶 (sol—ge1)，应用于制备TiO， 强范围在 l0～l00Pa，它在靶面处无需磁场 ， 薄膜产品：而干性工艺如磁腔溅射，因其能大面 具有很高的等离子浓度。因此，空心阴极放 电 积得到均匀涂层，具有一定优势，制备的涂层经 大幅改变了溅射靶的利用效率。此外，大最惰 久耐用，具有很强的粘附力。我们 以前 曾报道过， 性气体从两个阴极冲 向基材，作用气体如0，被 在总气压为3．0Pa下，通过反应磁控溅射，可得 送到空心阴极和基材之间，避免氧化表面 。因此， 到具有高光催化作用的TiO，薄膜。我们也报道 该沉积方法使用的金属靶材比一般磁控溅射具 过等离子体控制单元，它具有等离子发射强度 有高沉积率的优点。 的反馈系统及中频脉冲电源，能在 TiO，很高的 本研 究将在不同条件下采用 GFS法沉积 沉积率下稳定控制过渡区。一般使用的钛靶溅 TiO，薄膜，研究不同沉积参数与后退火对TiO， 射沉积率很低，约为 1～3nm／min，这是因为钛 薄膜的结构与光催化活性的影响。 靶表面被完全氧化。等离子发射强度的反馈系 统对于维持很高的沉积率 (90nm／min)是有 1实验 效的。 用于沉积 TiO，特殊设计的GFS系统，其原 Ishii曾报道，气流溅射 (GFS)是一个高沉 理图见图 1。该系统包含两块Ti靶 (80mm×6l0 — — — — 一 一 SOLAR ENERGY09／2014 mm)，、行面埘丽放置，它们垂直于基材，在靶 当0，流率大于 l0sccm后，沉积率维持在 l6O 之问广：乍 心阴极放 电，强 ／J『氩气流 (3000sccm) nm／min。当O，流量为 30sccm时，最大沉积率达 推进到节巴和基材之间，在基材附近提供 O，，溅 到 162nm／min；为Ti靶在 “氧化物模式” 卜沉 射出来的钛原了在基材处和O，作用