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第27卷第5期 太阳能学报 V01.27.№.5
2006年5月 A(xAENERGIAESOI。ARIsSIMCA May,2006
用于GaInP/GaAs双结叠层
太阳电池的MOVPE外延材料
黄子乾1,李 肖2,潘 彬2,张 岚2
(1.南京大学物理系,南京210016;2.南京电子器件研究所,南京210016)
摘要:采用金属有机化合物气相淀积(M0Ⅵ,E)技术生长用于GaIr酬GaAs双结叠层太阳电池的外延材料。针对
材料生长中的隧穿结、p.AⅡnP层等关键问题,通过对掺杂剂、生长技术及条件的调整与改进,极大地提高了GaInP/
叭s双结叠层太阳电池性能,最高转换效率达到23.8%(AM0,25℃)。
关键词:金属有机化合物气相淀积;刚GaAs双结叠层太阳电池;隧穿结;掺杂技术
中图分类号:7册14 文献标识码:A
0 引 言
近年来,由于金+属有机化合物气相淀积
(MOvPE)技术的发展,高效太阳电池在航天领域得
到广泛应用。鉴于单结电池只能将太阳光谱中一定
GaInP/GaAs双结叠层太阳电池的结构示意图。采用
能量的光能有效地转换成电能,因此为提高对太阳
电化学c—V法测试材料的掺杂浓度。
光的利用效率,将具有不同禁带宽度的半导体材料
叠加起来,分别吸收利用不同波长范围的入射光,由 2结果与讨论
此产生了双结、三结等多结叠层电池。目前GaInP/
2.1隧穿结生长
GaAs双结叠层太阳电池的光转换效率已达到
当顶、底电池通过隧穿结(TJ)的连接构成双结
25.7%(AMO)…。然而在多结叠层太阳电池的研制
叠层太阳电池时,隧穿结特性是影响电池性能的重
中,材料的生长是其中的关键和难点。就GaIllP/
要因素之一。通常引入隧穿峰值电流的概念来描述
GaA与双结太阳电池的研究而言,超薄高掺n“一其特性。显然,子电池间的隧穿结应是超薄高掺的
GaAs/p”.GaAs隧穿结和p+一mInP窗口层的生长对
“零压降”欧姆连接:①P/N结两双侧掺杂浓度足够
太阳电池的性能产生很大影响。 高,使半导体材料进入简并状态。一般地,其掺杂浓
本文利用MOVPE技术,生长了G出P/GaAs双结
度达到1019cm~;②P/N结界面杂质浓度分布应尽可
叠层电池的外延材料。其中,着重对隧穿结和A1hlP
能陡峭,以避免杂质相互扩散引起杂质补偿;③隧穿
窗口层的生长进行了研究与分析。 结P区和N区的厚度应尽可能的薄(小于15m)。
为获得尽可能高的隧穿峰值电流,隧穿结材料的选
1实验
择、掺杂源的选择、掺杂浓度及材料生长工艺等都是
采用mMOVPE技术进行材料的外延生长,衬
必须考虑的。此外,在后续生长过程中应避免由于
底为∞’掺Si的n一‰~s(110)单晶片,偏角2。。所用
掺杂剂的记忆效应和高掺杂杂质的扩散等作用影响
M0源为三甲基镓(脚Ga)、三甲基铝(皿咖)、三甲基
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