真空镀膜方法制备二氧化钛薄膜研究的论文.pdfVIP

中国感光学会第八届五次理事会暨2013 年学术年会论文摘要集 真空镀膜方法制备二氧化钛薄膜研究 王丽丽，张艺伟，张春梅，王正铎，孟涛* （北京印刷学院，北京 102600） 摘 要：利用真空镀膜方法以 99.99% 的TiO2 粉末为镀膜材料，在不同的沉积速率下，在玻璃衬底上制备 TiO2 薄膜。利用台阶仪、X 射线衍射（XRD ）、原子力显微镜（AFM ）对制备的TiO2 薄膜性能进行了表征。 讨论了不同退火温度对 TiO2 薄膜结构的影响。结果表明：在镀膜速率为4Å/sec 条件下制备的TiO2 薄膜， 膜厚为200nm 的样品，在室温条件下，具有无定形结构。450 ℃退火1h 后呈现锐钛矿晶体结构。所得TiO2 薄膜均匀，与玻璃片基结合度较好。 关键词：TiO2 薄膜；电子束蒸发；薄膜结构；光学性质 1 引 言 TiO2 具有化学活性高、分散性好、可见光透过率高及吸收紫外线等优良的性能颇受人 们青睐，在太阳能电池、光电转换器、污水处理、空气净化、保洁除菌等领域有着广泛的应 用。TiO2 可以作为一种重要的功能薄膜材料。典型的TiO2 有三种晶体类型:金红石、锐钛矿 和板钛矿。目前,有多种方法可以制备TiO2 薄膜,如溶胶-凝胶法、电化学法( 阳极电沉积法、 阴极电沉积法、电泳法等) 、化学气相沉积法、喷雾热分解法、脉冲激光沉积、磁控溅射方 法等。不同的制备技术对薄膜的结构、外观和性能, 比如膜层厚度的均匀度,与玻璃基体结合 牢固度,表面的微观形貌, 晶体的结构等都有不同影响。 本文采用真空镀膜方法制备 TiO2 薄膜，并通过台阶仪、X 射线衍射（XRD ）、原子力 显微镜（AFM ）、紫外-可见分光光度计（UV-Vis ）等方法对制备的TiO2 薄膜的进行研究， 为TiO2 薄膜的工业制备提供可靠的依据。 2 实验方法 采用电子束蒸发、离子束辅助反应，以99.99%的TiO2 粉末为镀膜材料。将清洗后的玻 璃片固定在铝板上，悬空中挂在镀膜机的工件架上。镀膜前，抽高真空至 5×10-3Pa 后，即 可进行镀膜操作。镀膜时，控制镀膜速率分别为2Å/sec 、4Å/sec 、5Å/sec 。镀膜过程中，离 子源产生的离子束继续对基片进行轰击，使得玻璃片表面能增大，生成的 TiO2 能够与玻璃 片紧密结合。为了使蒸镀的 TiO2 形成稳定的晶型，镀膜结束后，取出样品，对样品均采用 不同温度退火 1h 热处理，通过测定XRD 晶型，得到最适合的退火温度。 薄膜结构采用射线衍射仪进行分析,通过德国布鲁克 DektakXT 台阶仪、日本理学公司 D/MAX-2200PC X 射线衍射仪、本原扫描探针显微镜CSPM5500 。 3 实验结果与分析 表 1 是用德国布鲁克 DektakXT 台阶仪测得的不同镀膜速度下制备的不同厚度的TiO2 薄膜。从表 1 中可以看到随着镀膜速率的增加，制备得到的TiO2 薄膜厚度也随着增加。 * tmeng@bigc.edu.cn 北京市属高等学校人才强教计划资助项目（PHR201107145 ） 123 中国感光学会第八届五次理事会暨2013 年学术年会论文摘要集 表 1 不同镀膜速率下制备的TiO2 薄膜厚度 No. 镀膜厚度（nm ） 镀膜速率（Å/sec ） 样品 1 100 2 样品2 200 4 D--_C 样品3 400 5 对上述三种厚度的 TiO2 薄膜分别在温度 300℃、400 ℃、450 ℃、500℃下退火 1h，用 日本理学公司D/MAX-2200PC X 射线衍射仪进行测定。结