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0si析s6卷搿膂分l年7月ar谱光与学谱．vs光 eetroscopySpectra
V+注入TiO：薄膜紫外一可见光谱研究
侯兴刚，刘安东。
教育部射线束技术与材料改性重点实验室，北京师范大学低能核物理研究所，北京市辐射中心，北京100875
摘要采用v+注入方法制备吸收可见光的Ti魄薄膜。紫外一可见光谱表明，随注入V+剂量的增加
TiOz薄膜的光学带隙宽度随之减小。对注入后的Tiq薄膜进行退火可进一步减小光学带隙宽度。
主题词TiQ薄膜；V+注人；紫外一可见光谱
02
中圉分类号：0484．4文献标识码：A 文章编号：1000-0593{2006)07—0231
由于具有优异的光催化性能，Tiq在环境治理方面得 膜的紫外一可见透射光谱。随着注入剂量的增加，Ti()2薄膜
到了广泛的研究口]，然而TjQ较宽的光学带隙影响了其在在大于350Jm的区域光透过率明显下降，并且在可见光区
实际当中的应用，因此拓展Ti02的光响应范围成为当前研由干涉形成的吸收峰逐渐消失，而在小于350nm紫外区透
究TIOz光催化的主要方向之一。最近的研究表明，过渡金过率变化不大，这是由于V+注入后在TiQ薄膜内部产生大
属离子注入也是拓展Tio薄膜光响应的一种有效手段口～。 量的缺陷，注入的V’及缺陷对大于350rim的光产生了一定
量的吸收。图1表示与光子能量E的关系曲线，由外推法可
在Ti02薄膜上注入过渡金属离子后，可以使Ti02薄膜在可
见光作用下就可降解有机物。 得到光学带隙的宽度。
1实验部分 3呻
1．1光催化剂的制备及实验仪器． g
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以石英玻璃为村底，以钛酸四丁酯、乙酰丙酮等为原料
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配备溶胶“]，所用原料均为分析纯。使用匀胶机制各Tjq
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薄膜，匀胶机转速为4 1．rain。制备好的薄膜在马弗
炉中以1．5℃·min叫升温至450℃，保温30min后自然冷
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在岛津UV-160分光光度计上测得Tiq薄膜的紫外一可 The
Fig．1 alⅢticalabsorptionsl№etraof(4)wi咖l砸嘎film
见光透射光谱。 and、一ion w
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1．2数据处理
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