微弧氧化法制备磁性薄膜地研究.pdfVIP

!!!! 丝 丝 塑 煎 !塑!堡擅j：!!!塑!鲞 微弧氧化法制备磁性薄膜的研究+ 陈志彦，李文芳，彭继华 (华南理工大学机械工程学院，广东广州510640) 摘要： 采用微弧氧化法以FesO。溶液在钛金属表面 2实验 制备超顺磁性薄膜。用m、Ⅺ∞和sEM等表征了磁性 薄膜的组成和形貌，结果表明磁性薄膜主要由Fe304和2．1实验装置 (Fe203)，·2H20晶体组成。推断了磁性薄膜的形成机理， 实验所用装置如图l所示。 关键词：Fe304薄膜；磁性能；微弧氧化 中圉分类号：0484．4+3 文献标识码：A 文章编号： 1001．973l(2007)增刊-1276一03 1 引 言 微弧氧化(MAO)又称为微等离子体氧化(mO)、阳 自4控M}现 极火花沉积(AsD)或火花放电阳极氧化(ANOF)，MAO 图1微弧氧化装置示意图 技术就是将A1、Mg和Ti等阀门金属浸于一定的电解 skatchofIIlicro—arcoxidanon F培1 map cquipment 液中，进行高压大电流的阳极氧化，突破了传统的阳极 2．2实验及表征 氧化屯流和电压法拉第区的限制，把阳极电位由几十伏 将清洗干净的钛金属片放入Rs0。溶液中，接通电 提高到几百伏．氧化电流从小电流发展到大电流，由直 源，控制适宜的工艺参数进行微弧氧化，然后把钛金属 流发展到交流，当阳极氧化电压超过某一临界值后，表 片取出用蒸馏水冲洗、吹干，可制得厚度约几到几十个 面初始生成的绝缘氧化膜被击穿，致使样品的表面出现 微米的薄膜。 电晕、辉光、弧光放电、甚至火花放电等现象，形成瞬 FT．IR采用Nicolet．360E．s．P型红外光谱仪进行测 间的超高温区(2000℃)，在该区域内氧化物或基底金属 被熔融甚至气化，与电解液发生热化学、等离子体化学 和电化学反应，熔融物激冷而形成非金属陶瓷膜层”。1。 析，仪器：日本日立公司x．650型扫描电镜，测试方法： 该技术兼具氧化和烧结作用，陶瓷层与基体之间的结合 将待观察样品固定在样品台上，加速电压为20kV，在 为冶金结合，成膜速度快、薄膜组织致密．性能优越， 一定的放大倍数下观察其表面形貌；饱和磁化强度的测 工艺操作简单，可处理复杂形状和空心工件，对设各及 工件的预处理要求不高，电解液环境污染小等特点，是 测试条件：室温。 一种极具发展前途的陶瓷薄膜制备工艺¨】。 3结果与讨论 目前．对微弧氧化的研究主要集中于微弧氧化的电 压、电流密度、空占比、氧化时间、温度、溶液体系的 3．1 xRD分析 成分、基体材料等工艺参数对铝、镁、钛及它们的合金 图2是薄膜的x射线衍射图，与标准的PDF卡相 表面微弧氧化制备氧化铝和氧化镁等陶瓷膜层的影响。 比较可以看出，x射线衍射图2磁性薄膜的Ⅺ①图。 对微弧氧化成膜的机理，以及不同实验条件下制备的陶 瓷膜的形貌、结构、相组成、硬度、耐磨性、耐腐蚀性 和薄膜厚度等性能的主要影响因素进行了分析”“。另 外，微弧氧化技术还被用于制备功能薄膜的研究中，如 钛基体的衍射峰(38．14。(002)，4010。(1叭)，70．42。 S．vGNEDENKOv疆l、韩冰唧分别用醋酸钡、氢氧化钡溶 液在钛台金表面制各了Bm03铁电薄膜；有研究者”…≈体组成。