虚拟微电子工艺过程的探究.pdfVIP

200】年 工程圈学学报 增刊 JOURNALOF ENGINEERING GRAPⅡ【CS 虚拟微电子工艺过程研究 南开大学机器人与信息自动化研究所 赵新李亚威 李明 卢桂章 刘景泰张蕾王晓娜 摘要虚拟徽电子工艺过程研究包括两部分内容：一方面，力图通过深八分析每一 单步工艺过程的特点，建立起典型微电子工艺参数与所生成部件几何形状的关系，即工 艺模型：另一方面，根据工艺模型，研究对应具体工艺过程，部件几何形状的部件剖面 圈和三雏可视化方面实现问题．本文主要研究后一个问题．首先，针对淀积．刘蚀两个 典型工艺过程分析了实现部件剖面图和三雏可视化所必须解决的问题：其次，给出了基 于线段生成的实现策略；最后，结合一个实际例子，给出了根据工艺模型自动生成其剖 面图的实现方案及生成结果，从而验证7实现策略的可秆性。 关键宇虚拟设计．虚拟工艺，徽电子机械系统 0引言 E1ectro Mechanical 基于虚拟现实技术的微电子机械系统(Micro System)快速原形 设计[1]的实现是基于这样一个假设：设计者给出MEMS器件的各部件设计方案，即可 通过相应的微电子工艺流程．得到其理想的部件成品。也即，微电子工艺流程能够精确 的再现设计者的设计方案。 事实上，MEMS器件并不是象普通机械一样设计方案是用CAD软件画出其几何模型： 它同微电子芯片一样，是通过版图设计软件分层设计淀积、刻蚀过程所需不同的掩膜、 时间及其它工艺参数，来控制工艺流水线生成所需成品的几何形状；园此，部件成品的 几何形状与原设计方案必然存在误差。对于通常的微电子器件，要完成的是逻辑功能， 只要满足一定范围的精度，几何形状的误差不会影响其逻辑功能：而对于MEMS器件， 要完威的是机械功能，几何形状的误差会对机械性能的好坏、甚至机械功能能否实现产 生巨大的影响。在现阶段Iv皿MS器件工艺问题还未很好的解决的情况下，研究徽电子工 艺过程对微电子机槭部件几何形状的影响显得非常重要。率文的研究工作就是以版图设 计软件分层结构为起点，利用工艺参数，生成其所对应三维几何模型，使设计者在设计 过程中直观地获得部件几何模型的三维赙受，以提高设计过程的效率。 设计过程的三维可视化就是在虚拟环境中模拟硅材料(或其它材料)的淀积、袤q蚀 等工艺过程，本质上是虚拟工艺问题。本文采用圈形生成的方法，来模拟工艺过程；这 样，整个工艺过程及其变化情况均可以包含在虚拟工艺之中。 国外高档淝临设计软件中已包含了设计过程的三维可视化，但它实现的功能本质上 赵新等： 虚拟微电子工艺过程研究 是版图的分层结构到三维几何模型的格式转化，略过了工艺模型；因此，只能包含最基 本的工艺过程；对于一些工艺线不能完全再现设计者理想中部件几何形状的情况则无能 为力。本文的虚拟工艺研究，由于考虑了工艺模型，模拟的是整个工艺过程，可以再现 非理想状态。这些发生在几何形状上的微小差异，对于要完成逻辑功能的微电子器件可 能影响不太，但对于的MEMS器件的机械性能，影响是致命的。 1主要研究问题 1．1剖面凰 绘制剖面图就是根据主程序提供的线段参数(指定设计者所关心的剖面)，在一个窗 口内显示此线段所在的垂直于版图编辑器俯视图的平面与MEMS部件相交的截平面。 ·M互MS部件的表述方式 因为MEMS器件是用不同的工艺分层生威、腐蚀得到的：因此，MEMS器件应采用 分层表述方式。在其文件格式中，每一层有相应的名称，每层由若干多边形、圆形、椭 圆等基本围形和这些基本图形的组合构成。 根据MEMS工艺的特点，可以使用线段作为剖面图的描述方式。这样整个剖面图的 生成问题便转化成由线段生成的算法。 · 掩模板 利用版图软件设计MEMS部件，实际上是设计掩模板，来控制特