导体厂制程排气系统.docVIP

導體廠製程排氣系統! o+ w {; [. j. x; N* g魏振翼, 彭淑惠, 胡石政0 `/ s% h g9 l4 v??v摘要# N6 t: e% u* z( K. [. M0 g3 X新竹新學園區的設8 } T8 Q# N1 m5 r! ^# `( r6 Y污染，半導體業在製造過程中，無可避免地必須使用??k% D( f4 K3 b0 g3 d為$ z/ r1 f2 |0 H9 r/ D9 v排氣系統（Exhaust System），雖非製程生產所需設備，但卻是為生產區域營$ Z6 A6 L2 }) F0 T造一個可供生產人員在安全無虞情況下的工作環境，因此製程排氣系統，從. C o: F9 f( v7 u) o, v廢氣物質相容性至排放氣體% t4 j/ g X0 v- O8 A8 b縝密選擇，這些均是環環相扣缺一的目的乃是希望藉由針對5 d, [: |+ [??N4 k$ d# m廢氣種( E+ V: c1 R( n$ M% a- K/ L篩選出既安全又環保的系統。 X* K2 A1 z; V2 c+ F3 A關鍵詞：半導體工業、揮發性有機廢氣、洗滌塔1 s8 F0 m Y5 I f* G. Q: p* P1． 前言??l4 }( u6 X# }4 s; l8 H. ] l! q半導體工業，雖已有四十之速非常驚人，且電5 P0 U+ Z4 b8 g/ R1 C% f e子產品已成為人們生活中1 j r5 R+ W1 n% M9 v, X能; p [9 c; V E安全，同時$ A) t B4 M+ t3 M3 d造成環保空氣污染。有鑑於此，在投入半導體工業建廠的同時，希望能對製程排氣之處1 J. {9 P* f3 [, V??{環保相關法規甚至各個系統處8 `* g5 B5 n. n3 n2． 製程排氣系統之分! v i4 Y! p??@ ^- ?- Z/ H半導體製程, [ t* h- o! l- i單一種 Q, m+ B K6 `0 `: }4 R4 N# z$ K易，因而，目前半導體廠房中，依據排放之特性大致上區分為酸／毒性（Acid Exhaust）、鹼性: G9 B! H D d/ Z) y% G（Alkali Exhaust）、有機溶劑（Solvent Exhaust）及一般排氣（General Exhaust）四個系統：3 K+ d6 W9 Y S) a$ u v: p(1) 酸、鹼性廢氣：其主要- {7 n. b3 Y# ^部分含有濃煙，部分則對呼吸系統有Central Scrubber8 B, M! T$ O??| v3 I! A# b做水洗中和處 u! I$ M5 R# A; K6 b(2) 毒 性 廢 氣：其主要CVD）乾蝕刻機、擴散、0 E0 k u }8 Q( ?等製程時所產生，由於以上之製程均使用大( E0 C2 U; J7 G* C/ Y( VLocal Scrubber 作先Central Scrubber 做水洗中和處再排入大氣。, Y??|# x% p8 v: V% @ r) x7 i(3) 有機溶劑廢氣：目前半導體製造業大多以活性碳吸附塔或填充式洗滌塔處VOC3 q g4 X) t6 d6 Q6 H! u??b. }氣體，但本公司之前設計茂德廠則採用沸石濃縮轉90﹪以6 Y u6 B* y6 X9 H l( k上，為目前較佳之空氣污染控制技術。: w0 V3 G4 u6 \ V??R(4) 一 般 廢 氣：其接排入大2 g7 B. {. [ E% [! \4 t3 c$ w8 g$ U氣。# p: P6 w% m. |酸性廢氣 y9 G; q. G$ ]4 QAcid Exhaust. _ y/ ?( `6 ? L8 j4 qToxic Exhaust* @% k8 K6 ^+ M. e6 O8 s7 p毒性廢氣( o4 p) M1 A \CDO. R; s% e. P: J. P7 m, GDAS |0 k: W4 p4 n* R3 VLocal Scr Z H3 J `/ @/ Z$ D9 W/ ~- h酸3 o6 ?. j5 s6 `) Q8 F/ S( A4 i4 e0 M、% @. f6 P5 \2 m N# M毒6 W( D/ V8 a: f性3 N- s$ H8 ^5 C2 d$ J: I2 h- o廢+ m4 m9 S X, J- K- u6 k氣 Z- y/ Y D. L. b7 N6 v* b% C排5 }* _??T/ N | n??N) X, y2 Y8 P放8 ]! m% N7 z2 Q3 }5 Q管2 l0 h ^8 H8 I2 `! OScru