电沉积Ni-S合金析氢阴极地研究.pdfVIP

Nonferrous andMaterialsInternational China Metallurgy Symposium2004—,—S—henyang 电沉积Ni．S合金析氢阴极的研究 韩庆，魏绪钧 1 (东北大学材料与冶金学院， 辽宁沈阳 10006) 摘 要：以硫脲作为硫源，在瓦特浴体系中通过电沉积方法获得Ni．S合金电 极．系统地讨论了电沉积过程中各工艺条件(硫脲浓度、电流密度、pH值及温度)对 镀层中S含量的影响，确定了硫脲浓度和电流密度为Ni-S合金镀层中S含量的主要影 响因素；以恒电流极化方法测试不同S含量的合金电极的析氢过电位，得到了析氢过 电位仅为90mV的非晶态Ni．S合金析氢阴极；以稳态极化方法测定该电极的稳态极 化曲线，并通过计算得如其电学参数(b，／0)．结果表明，该电极具有极高的电化 学活性． 关键词：电沉积：Ni．S合金；析氢阴极 氢气一般采用电解水(电解液为碱液)的方法制取，但该方法存在着能耗大、成本高的缺 点，主要原因之一为阴极析氢过电位难以降低．目前，工业用析氢阴极主要是铁阴极和镀镍 阴极，过电位分别为380mV与480mV，故需消耗大量电能．近二十几年来，人们做了大量 的研究工作以寻求替代铁阴极的低析氢过电位的新型阴极材料．在这些研究成果中，Ni．S lOmV，并可在4个 的电流密度下电解25％(质量分数)KOH溶液时，其析氢过电位仅为60～1 月内保持稳定川． Ni．S电极可由多种方法制得，通常在瓦特浴中加,h．KSCN／21、NaSCNp1、硫脲【4~6J作 为硫源，进行电镀，获得不同S含量的Ni．S合金电极．Hine等|2J报道镀层中S含量随镀液中 Ni合金电极；镀层中的硫为弱晶化晶体， 20％(质量分数)的Ni．S电极，其粗糙度远小于Raney 极化过程中的暂态行为，认为能够大量吸氢的结构的形成是引起镀层性能提高的主要原 因．Wen等16I用分级因子设计方法，确定硫脲浓度和电流密度是电镀过程的关键因素，提出 Ni与Nisx的电沉积反应互相竞争的机理． 以上文献均未系统地研究影响电镀过程及镀层质量的因素，为弥补该方面的不足，本实 验以硫脲作为硫源，选择不同的工艺参数，旨在系统地讨论电镀过程中各工艺参数对镀层中 S含量的影响，通过测定不同S含量的电极析氢过电位来确定最佳工艺条件，并测定电极的 电化学参数． 1实验 1．1材料及设备 (1)电极材料 电解实验中所用研究电极的基底为低碳钢片；而进行x射线衍射实验时，使用cu片作为 基底，阳极为大面积镍片． Nonferrous andMaterialsInternational China Metallurgy Symposium2004，Shenyang (2)电镀液组成及电镀设备 电镀液采用以硫脲作为硫源的瓦特浴体系：NiS04·71-hO 200∥L。NiCh·6H2040∥L， H380335 10-250 mA·cm-：．以 g／L，CSfNI-12)2g／L，pH值3·5，温度25-60C，电流密度10—30 上药品均为分析纯．电源设备为wYJ．30V／10A晶体管直流稳压电源，搅拌设备为89HW．1 型恒温磁力搅拌器，以毫安表控制电镀过程中的电流密度． (3)测试方法 镀层中的s含量采用BaS04重量法【4l测定．镀层的镀态结构分析采用日本理学D／MAX．RB x射线衍射仪．实验条件为：Cu阳极，操作电压40kV，扫描速度8。／min． 1．2电化学实验 电化学实验均采用三电极体系，工作电极为N