离子镀厚金膜工艺地研究.pdfVIP

离子蕞厚金镬工艺的研究 177 离子镀厚金膜工艺的研究 ResearchofIon Thick—AuFilm Plating Process 李争显，骆瑞雪，周慧(西北有色金属研究院，西安71003．6) I，I Rui—xue，ZHOUHui Zheng—xian，LU0 (NorthwestInstituteforNonferrous Research，Xi’anZ10016．China) 摘要：在+50C～一200C的温度范围内，摩擦副在干摩擦状况下+既能可靠的往复运动，又能实现严格的密封，因 此，对摩擦副进行镀金处理是必要的·罘用电镀、化学镀等工艺懒备出的金碘不能完全满足要求·采用电弧离t镀工 艺牺备出了高质量的厚金骥。本文主要叙述对离子镀厚金腱工艺的研究情况。 关键词：离子镀{厚金膜；工艺 surfaceneeds C～一200C，friction tOhavetO—and—fromotionandstrict Abstract：During+50 cap— itis to Aufilmonthefriction thick·Au sulation，then film necessary plating qulity surface．High canbeobtainedaftion otherthan andchemical this by plating paper，the eletroptating plating．In workontheion thick—Aufilmisintroduced． research plating words：ion Key plating；thick—Aufilm；process 根据某工程的需要，在+50C～一200C的温度本底真空度：5×lO“Pa 范围内，摩擦副在干摩擦状况下既能可靠的往复运 工作气体分压强：5～5×101Pa 动，又能实现严格的密封。因此，对摩擦副进行镀金 处理是必要的。在已有的镀金技术中，主要有电镀金、 化学镀金、真空蒸发镀金和离子镀金等。电镀金易实 现镀厚金膜，但膜与基俸的结合力差，只能用于对性 能要求不是很高的电子元器件中；化学镀金和真空蒸 发镀金一般用于装饰品上，对其只要求表面色泽等装 饰性能；离子镀金是近几年发展起来的技术，特别是 电弧离子镀技术广泛地用于各个领域，但电弧离子镀 围1电孤离子镀设备示意田 制备的纯金属膜层厚度一般认为在10,um以下，本工 1．电曩骧(Au){2电弧塬(Ni、Cu) 作采用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制