铂微电极表面纳米结构的电化学制备、STM和SEM研究.pdfVIP

AOlI 铂微电极表面纳米结构的电化学制备、STM与SEM研究 贡辉，陈友江，陈声培，孙世刚 ‘ (固体表面物理化学国家!点实验室，厦门大学化学系.物化所，厦门361005) 与常规电极相比，微电极具有双层电容小、对电位变化响应速度快等优点。因此微电极 比常规电极更适用于各种暂态电化学方法。最近，我们使用快速电位循环扫描处理铂微电极 (N-Pt)，以CO为探针分子，结合原位显徽镜红外反射光谱 (，situSFCIRMS)发现所制备 的}vpt电极具有异常红外效应 (AIREs)[1]。本文进一步运用STM和SEM研究电化学快速 电位扫描处理的1+-Pt表面上形成的纳米结构，这对进一步认识异常红外效应及其起因将具有 重要的意义。 快速电位循环扫描实验中采用的扫描速度为30V-s1e图1是铂徽电极经过不同快扫处理 时间:后在O.IMH2SOa溶液中以O.1V-s1电位扫描速度记录的循环伏安曲线.图中可以看到， 随z增加，氢和氧的吸脱附电流都相应增大。CV图中氢的吸脱附电f常被用作铂电极表面积 的标定。由此可知，当tSOmin时，Pt撇电极表面随t增加而迅速增大。因为电极表观面积(耐) 为一定值，所以电极表面粗糙度随着快速电位扫描的进行会不断增大。但当n80min以后， 可观察到电极表面积的增大趋势缓慢减小，最后电极表面真实面积达到一个定值。电极表面 相对粗糙度可由图中氢区的积分电量得到，R--W1C“，(S表示快速电位扫描处理前的电极表 面)。从CV曲线上求算得到R与s的关系如图2所示，可看到电极表面相对粗糙度最大值为 2.8。循环伏安曲线的氢区内有两对氧化还原峰，位于。.09V与。.25V附近，分别对应的是氢 的弱吸附和强吸附形式，与吸附位的对称结构有关，通常认为。.09V为H在短程有序 ((111) 或 (110)位上的吸附，而0,25V为H在短程有序 ((100)位上吸附。图I中虽然看到两个H 峰电流都随下增加而增加，但是强吸附H的峰电流增加明显大于H弱吸附峰电流的增加。这 些说明电极表面结构在快速电位循环扫描过程中发生了改变，逐渐转化成短程 (100)位占优 的表面，即快速电位循环扫描处理具有择优取向的作用2【1.图3给出不同缺速电位扫描处理 后铂微电极表面的STM图像。未处理的电极表面上仅可以观察到研磨留下的划痕和几十纳米 大小的铂微小颖粒。r-30min，可观察到电极表面上生长出许多尺寸在 150mn左右的椭回形 铂撇晶体，其尺寸随t的增加而不断增加。在t=60min的时候，铂晶体大小为300mn，当，80min 时，可达到400nm.随着z的增加，电极表面不平度也相应增大。STM 图像的计算机统计结 果表明电极表面不平度与:之间不是简单的线性关系。t60min表面不平度的增加辐度较小， r-60min的铂微电极与未经处理的相比，表面不平度值仅增加了约26nm。然而在。60min后， *国家自然科学荃金资助.联系人:孙世刚，E-mail:Sgsua@miu.eduCa AOil 铂电极的表面不平度迅速增加。将T=120min和60min电极作比较，可发现它们的表面不平度 之差达到143nm，此数值为前60min的5.5倍。SEM实验有利于方便地在较大面积范围内研 究电极表面结构随快扫处理的变化过程。SEM照片上观察到了类似于STM的变化规律。快 速电位扫描处理120min后，SEM照片上可清楚地观察到铂微电极表面上生长出一层枝状晶 体，说明此时的表面与初始状态己有很大区别。 本文的结果指出，铂微电极的表面粗糙度随着快速电位循环扫描处理时间T的增加而增 加。当T80min后电极表面粗糙度达到一个稳定数值。快速电位循环扫描处理使铂微电极表 面具有择优取向的趋势。STM图像表明表面产生纳米结构薄层，说明表面上的铂金属在快速 电位循环扫描处理中经历了反复的电溶解和电重结晶的过程。从STM图像和SEM照片上还 可观察到电极表面的铂微晶体尺寸以及表面不平度都会随着快扫处理时间T的增加而增加。这 些结果联系着快速电位循环扫描处理铂微电极后表现出的异常红外特征，证明了电极表面薄 层的纳米结构与异常红外效应之间密切相关。 0 0匀 心』 .月 ‘. ，. ，J ，4 .启 EIV(Pdlm 图1铂微电极经过不同处理